[发明专利]3D半导体器件、配置和方法在审

专利信息
申请号: 201880061011.7 申请日: 2018-09-23
公开(公告)号: CN112771670A 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 兹维·奥·巴赫;金宇·韩;布莱恩·克洛奎斯特;伊莱·卢斯基 申请(专利权)人: 宏大3D有限公司
主分类号: H01L27/11556 分类号: H01L27/11556;H01L27/11524;H01L27/11582;H01L27/1157
代理公司: 北京天奇智新知识产权代理有限公司 11340 代理人: 李振文
地址: 美国加利福尼亚州*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种第一3D器件和一种第二3D器件,这两种器件都包括:至少第一级,第一级包括逻辑电路;至少第二级,第二级包括存储器单元阵列;至少第三级,第三级包括专用电路;以及至少第四级,第四级包括专用连接配置,其中,专用连接配置包括以下中的一种:A.光波导,或B.差分信号,或C.射频传输线,或D.表面波互连(SWI)线,其中,第二级覆盖第一级,第三级覆盖第二级,并且第四级覆盖第三级,其中,第一级包括由单晶硅构成的基板,其中,第一器件的表面积远大于第二器件,并且其中,第二器件的第四级与第一器件的第四级的一部分非常相似。
搜索关键词: 半导体器件 配置 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宏大3D有限公司,未经宏大3D有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201880061011.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top