[发明专利]用于TiN-SiN化学机械抛光应用的高选择性的氮化物抑制剂有效
| 申请号： | 201880059982.8 | 申请日： | 2018-08-13 |
| 公开（公告）号： | CN111108161B | 公开（公告）日： | 2022-06-14 |
| 发明（设计）人： | 简智贤;邱逸闳;黄宏聪;叶铭智 | 申请（专利权）人： | CMC材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;H01L21/306;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 邢岳 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供化学机械抛光组合物，包含：(a)研磨剂颗粒；(b)移除速率抑制剂，其选自(I)包含聚氧化烯官能团及磺酸根官能团的表面活性剂、(II)包含聚氧化烯官能团及硫酸根官能团的表面活性剂、(III)包含聚氧化烯官能团的第一表面活性剂及包含磺酸根官能团的第二表面活性剂、及(IV)包含聚氧化烯官能团的第一表面活性剂及包含硫酸根官能团的第二表面活性剂；及(c)水性载剂。本发明还提供利用本发明化学机械抛光组合物对包含TiN及SiN的基板进行化学机械抛光的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 tin sin 化学 机械抛光 应用 选择性 氮化物 抑制剂 | ||
【主权项】：
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