[发明专利]冷却设备和用于冷却设备的等离子体清洁站

摘要

一种光刻设备包括：投影系统，配置成投影图案化辐射束以在衬底上形成曝光区域；冷却设备，在使用时位于所述衬底上方并且邻近于所述曝光区域，所述冷却设备配置成在使用期间从所述衬底去除热量；等离子体容器，位于所述冷却设备下方且所述等离子体容器的开口面朝所述冷却设备；以及用于将气体供应至所述等离子体容器的气体供应件和用于接收辐射束的孔。在使用时，所供应的气体与所接收的辐射束反应以在所述等离子体容器内形成等离子体，所述等离子体被引导朝向面向所述等离子体容器的开口的所述冷却设备的表面。