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[发明专利]泵-CN202180064257.1在审
发明人： W·M·德拉佩尔 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2021-08-30 - 公布日： 2023-06-06 - 主分类号： H05G2/00 文献下载
摘要：描述了一种泵，该泵包括贮存器及与贮存器热连通的多个加热元件，所述多个加热元件被配置为向贮存器选择性地提供热能。还描述了一种泵送材料的方法，该方法包括：为泵提供与加热元件阵列热连通的贮存器；将待泵送的材料提供在贮存器中；操作加热元件阵列以熔化贮存器中的材料；操作加热元件阵列以允许液体材料的第一部分固化，由此形成栓塞；操作加热元件阵列以允许液体材料的与栓塞相邻的上游的第二部分固化；以及操作加热元件阵列以熔化栓塞的下游部分，以在增加的压力下产生液体材料的一部分。

[发明专利]冷却设备和用于冷却设备的等离子体清洁站-CN201880055596.1在审
发明人： A·H·考沃埃特斯;C·A·德迈耶雷;W·M·德拉佩尔;S·N·L·多纳斯;J·格勒沃尔德;A·L·C·勒鲁;M·A·纳萨莱维奇;A·尼基帕罗夫;J·A·C·M·皮耶宁堡;J·C·G·范德尔桑登 -专利权人： ASML荷兰有限公司
申请日： 2018-06-07 - 公布日： 2020-04-24 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种光刻设备包括：投影系统，配置成投影图案化辐射束以在衬底上形成曝光区域；冷却设备，在使用时位于所述衬底上方并且邻近于所述曝光区域，所述冷却设备配置成在使用期间从所述衬底去除热量；等离子体容器，位于所述冷却设备下方且所述等离子体容器的开口面朝所述冷却设备；以及用于将气体供应至所述等离子体容器的气体供应件和用于接收辐射束的孔。在使用时，所供应的气体与所接收的辐射束反应以在所述等离子体容器内形成等离子体，所述等离子体被引导朝向面向所述等离子体容器的开口的所述冷却设备的表面。
冷却设备用于等离子体清洁