[发明专利]对用于缺陷优化的掩模版放置的控制有效
| 申请号： | 201880049194.0 | 申请日： | 2018-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN110945435B | 公开（公告）日： | 2023-05-26 |
| 发明（设计）人： | A·贾奇;A·本迪克塞;P·J·里索迪亚戈 | 申请（专利权）人： | ASML控股股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/683 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 张启程 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种设计用于将图案形成装置耦接到具有多个突节的支撑结构的系统，包括照相机模块、致动器和控制器。照相机模块被设计成捕获图案形成装置的背面的图像数据。致动器被耦接到多个突节中的至少一个突节，并且被设计为移动所述至少一个突节。控制器被设计为接收来自照相机模块的被捕获的图像数据，并根据图像数据确定图案形成装置的背面上的一个或更多个污染物部位。所述控制器还被设计为控制所述致动器，以基于所确定的污染物部位，使所述多个突节中的所述至少一个突节被移动远离所述图案形成装置的背面上的所述一个或更多个污染物部位。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 缺陷 优化 模版 放置 控制 | ||
【主权项】：
暂无信息
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