[发明专利]具有经涂覆的发射线圈的涂覆设备在审
| 申请号： | 201880045491.8 | 申请日： | 2018-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN110869540A | 公开（公告）日： | 2020-03-06 |
| 发明（设计）人： | H-G.富斯 | 申请（专利权）人： | 艾克斯特朗欧洲公司 |
| 主分类号： | C25D7/00 | 分类号： | C25D7/00;C25D7/06;C23C18/16;H01F5/00;H05B6/10 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王丹丹 |
| 地址： | 德国黑*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种通过将一种或多种工艺气体进料到处理室(1)中而在基底(4)上沉积层的设备，其中承载基底(4)的基座(3)能够通过一个或多个发射线圈(5)产生的电磁交变场而被加热至工艺温度，其中所述一个或多个发射线圈具有涂层(9)。为了给这种类型的设备指定一种耐腐蚀的、同时具有低发射率的且因此在氯化合物和湿气的存在下有效的发射线圈涂层而建议，涂层(9)由锡和镍组成。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 经涂覆 发射 线圈 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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