[发明专利]制造经高度调制的光学衍射光栅的方法有效
| 申请号： | 201880038492.X | 申请日： | 2018-05-22 |
| 公开（公告）号： | CN111033324B | 公开（公告）日： | 2022-08-02 |
| 发明（设计）人： | I·瓦蒂亚宁;J·拉霍迈基;M·埃尔德马尼斯 | 申请（专利权）人： | 迪斯帕列斯有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G02B6/00;G02B26/08;G02B27/09;C23C16/01;C23C16/04;H01L21/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈斌;蔡悦 |
| 地址： | 芬兰*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种制造经高度调制的光学衍射光栅的方法。该方法包括：提供基板并且在该基板上制造第一材料的多个临时元件，这些元件被间隙分隔开并且被布置为包括具有不同元件高度的至少两个周期的周期性结构。第二材料的涂层被沉积在该多个临时元件上，使得该涂层填充所述间隙并覆盖所述临时元件。随后，一均匀的第二材料层被去除，以便暴露所述临时元件，并且第一材料被去除，以便在该基板上形成第二材料的经高度调制的图案作为光学衍射光栅。本发明在制造具有局部变化的衍射效率的光栅的情况下放宽了制造约束。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 高度 调制 光学 衍射 光栅 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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