[发明专利]抗蚀剂下层膜形成用组合物在审
| 申请号： | 201880027076.X | 申请日： | 2018-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN110546569A | 公开（公告）日： | 2019-12-06 |
| 发明（设计）人： | 绪方裕斗;桥本雄人;田村护;岸冈高广 | 申请（专利权）人： | 日产化学株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/11 | 分类号： | G03F7/11;C08G59/18 |
| 代理公司： | 11247 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 马妮楠;段承恩<国际申请>=PCT/JP |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： |
本发明的课题是提供在曝光时作为防反射膜起作用，并且可以埋入狭窄空间和高长宽比的凹部，进一步相对于过氧化氢水溶液的耐性优异的抗蚀剂下层膜形成用组合物。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含树脂、下述式(1a)或式(1b)所示的化合物、和溶剂，相对于上述树脂，含有0.01质量％～60质量％的上述式(1a)或式(1b)所示的化合物。(式中，X表示羰基或亚甲基，l和m各自独立地表示满足3≤l+m≤10的关系式的整数0～5，n表示整数2～5。) |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂下层膜 形成用组合物 树脂 过氧化氢水溶液 防反射膜 狭窄空间 长宽比 亚甲基 溶剂 凹部 埋入 式中 羰基 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含树脂、下述式(1a)或式(1b)所示的化合物、和溶剂，相对于所述树脂，含有0.01质量％～60质量％的所述式(1a)或式(1b)所示的化合物，/n
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