[实用新型]一种水平载片舟及其托架结构有效
申请号: | 201822256311.0 | 申请日: | 2018-12-29 |
公开(公告)号: | CN210085576U | 公开(公告)日: | 2020-02-18 |
发明(设计)人: | 李丙科 | 申请(专利权)人: | 无锡松煜科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/40 |
代理公司: | 北京联瑞联丰知识产权代理事务所(普通合伙) 11411 | 代理人: | 黄冠华 |
地址: | 214000 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: |
本实用新型公开了一种水平载片舟及其托架结构,所述水平载片舟包括载片舟本体,所述载片舟本体上端面设有若干内凹的凹槽,所述凹槽尺寸略大约硅片的尺寸;所述水平载片舟托架结构包括托架本体,所述托架本体包括左右设置的侧板,所述侧板相对的内侧设有卡槽。本实用新型通过将载片舟及其托架结构设计为水平结构,能够使得放置在载片舟本体内凹槽内的硅片的背面不会被镀上Al |
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搜索关键词: | 一种 水平 载片舟 及其 托架 结构 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的