[实用新型]一种新型磁控溅射装置有效
| 申请号： | 201822225239.5 | 申请日： | 2018-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN209227051U | 公开（公告）日： | 2019-08-09 |
| 发明（设计）人： | 褚天舒 | 申请（专利权）人： | 湖畔光电科技（江苏）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京律远专利代理事务所(普通合伙) 11574 | 代理人： | 全成哲 |
| 地址： | 213200 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种新型磁控溅射装置，包括位于腔室内的靶材和可来回移动的基板，所述靶材正前方设置有保护阀门，所述基板的工艺位置两侧分别设置有第一螺线管，所述第一螺线管背离所述基板一侧对应基板的工艺位置设置有激光定位器，所述保护阀门和激光定位器均与控制器连接，所述控制器用于当接收到所述激光定位器检测到基板移动到工艺位置的信号时控制所述保护阀门打开，否则所述保护阀门保持常闭状态。本实用新型的目的是提供一种新型磁控溅射装置，提高靶材利用率，提升膜厚均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 基板 激光定位器 工艺位置 溅射装置 新型磁控 阀门 本实用新型 螺线管 靶材 靶材利用率 控制器连接 膜厚均匀性 常闭状态 阀门打开 基板移动 控制器 正前方 背离 室内 检测 移动 | ||
【主权项】：
1.一种新型磁控溅射装置，包括位于腔室内的靶材和可来回移动的基板，其特征在于：所述靶材正前方设置有保护阀门，所述基板的工艺位置两侧分别设置有第一螺线管，所述第一螺线管背离所述基板一侧对应基板的工艺位置设置有激光定位器，所述保护阀门和激光定位器均与控制器连接，所述控制器用于当接收到所述激光定位器检测到基板移动到工艺位置的信号时控制所述保护阀门打开，否则所述保护阀门保持常闭状态。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖畔光电科技（江苏）有限公司，未经湖畔光电科技（江苏）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201822225239.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种溅射镀膜阴极系统
- 下一篇：用于在基板上进行层沉积的设备
- 同类专利
- 专利分类
