[实用新型]一种MOCVD设备有效
| 申请号： | 201822204519.8 | 申请日： | 2018-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN209669347U | 公开（公告）日： | 2019-11-22 |
| 发明（设计）人： | 王志升 | 申请（专利权）人： | 东泰高科装备科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455;C23C16/458;C23C16/46 |
| 代理公司： | 11002 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人： | 王莹;吴欢燕<国际申请>=<国际公布>= |
| 地址： | 102200 北京市昌平*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及太阳能电池生产技术领域，尤其涉及一种MOCVD设备。该MOCVD设备包括反应腔壳体、气体喷淋装置、基片载台和加热器，所述反应腔壳体中设有反应腔室，所述加热器、基片载台和气体喷淋装置从内向外依次套设于所述反应腔室中；其中所述加热器、基片载台和气体喷淋装置均为两端开口且中空的筒体结构。本实用新型所述的MOCVD设备，能够在保证反应腔室中容纳数量更多、面积更大的电池基片的同时，保证和提高温度和气体分布的均匀性，进而能够保证和提高膜层沉积效果，明显提高了生产率，降低了生产线的设备成本。 | ||
| 搜索关键词： | 气体喷淋装置 加热器 反应腔室 载台 本实用新型 反应腔 壳体 太阳能电池生产 电池基片 两端开口 膜层沉积 气体分布 设备成本 筒体结构 均匀性 中空的 保证 容纳 | ||
【主权项】：
1.一种MOCVD设备，其特征在于：包括反应腔壳体、气体喷淋装置、基片载台和加热器，所述反应腔壳体中设有反应腔室，所述加热器、基片载台和气体喷淋装置从内向外依次套设于所述反应腔室中；其中所述加热器、基片载台和气体喷淋装置均为两端开口且中空的筒体结构。/n
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
