[实用新型]一种可降低蓝光危害的复合膜及背光模组有效
| 申请号： | 201822126280.7 | 申请日： | 2018-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN209496155U | 公开（公告）日： | 2019-10-15 |
| 发明（设计）人： | 曾照明;邱登明;谢超英;苏凤宜;姚述光 | 申请（专利权）人： | 广东晶科电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B1/00 | 分类号： | G02B1/00;G02B5/20;G02B5/04;F21V9/40;F21V5/00;F21K9/69;G02B6/00;G02B1/04 |
| 代理公司： | 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 | 代理人： | 罗毅萍;李小林 |
| 地址： | 511458 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种可降低蓝光危害的复合膜，包括上基层、下基层、设于所述上基层和下基层之间的由光子晶体构成的微晶结构层，所述微晶结构层能够透射波长在450nm以上的光线，同时能够将波长在450nm以下的光线部分或全部反射回去。还公开了该复合膜的制备工艺，包括以下步骤：制备微晶结构层：分别制备上基层和下基层：将上基层、微晶结构层和下基层叠合为一体，其中，微晶结构层位于上基层和下基层之间，增光结构位于表层。还公开了一种背光模组，包括上述的复合膜。本实用新型的复合膜，其结构简单，并能够精准的阻隔450nm以下波段蓝光，同时不会导致偏色。 | ||
| 搜索关键词： | 复合膜 结构层 上基层 下基层 微晶 本实用新型 背光模组 蓝光危害 制备 光子晶体 透射波长 增光结构 制备工艺 波长 波段 叠合 蓝光 偏色 反射 阻隔 | ||
【主权项】：
1.一种可降低蓝光危害的复合膜，其特征在于：包括上基层、下基层、设于所述上基层和下基层之间的微晶结构层，微晶结构层由光子晶体有序排列而成，所述微晶结构层的厚度200～500um。
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