[实用新型]一种用于阴极弧光放电的屏蔽装置有效
| 申请号： | 201822034632.6 | 申请日： | 2018-12-05 |
| 公开（公告）号： | CN209323003U | 公开（公告）日： | 2019-08-30 |
| 发明（设计）人： | 郎文昌;刘俊红;杜昊 | 申请（专利权）人： | 苏州艾钛科纳米科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/32 | 分类号： | C23C14/32 |
| 代理公司： | 北京智汇东方知识产权代理事务所(普通合伙) 11391 | 代理人： | 薛峰;康正德 |
| 地址： | 215010 江*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种用于阴极弧光放电的屏蔽装置，涉及电弧离子镀技术领域。其包括：靶材，其表面用于产生弧光放电；屏蔽罩，所述屏蔽罩包括喇叭口和屏蔽罩主体；所述屏蔽罩主体环绕封围设置所述靶材的周边，并与所述靶材具有预定间隙，所述喇叭口与所述屏蔽罩主体连接处设有伸出以覆盖部分所述靶材的靶面的延伸部，所述延伸部与所述靶材的靶面间具有预定间隙；支架，用于将所述屏蔽罩安装至电弧离子镀设备的腔室内，所述屏蔽罩安装于所述支架上。本实用新型提供了一种用于阴极弧光放电的屏蔽装置，以对放电过程中的电子进行屏蔽，有效增加电子的运动行程，提升等离子体浓度，提高电弧离子镀粒子的离化率。 | ||
| 搜索关键词： | 屏蔽罩 靶材 弧光放电 阴极 屏蔽装置 本实用新型 预定间隙 喇叭口 延伸部 支架 等离子体 电弧离子镀技术 电弧离子镀设备 电弧离子镀 放电过程 运动行程 主体连接 屏蔽 靶面 离化 粒子 环绕 伸出 室内 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种用于阴极弧光放电的屏蔽装置，其特征在于，包括：靶材，其表面用于产生弧光放电；屏蔽罩，所述屏蔽罩包括喇叭口和屏蔽罩主体；所述屏蔽罩主体环绕封围设置所述靶材的周边，并与所述靶材具有预定间隙，所述喇叭口与所述屏蔽罩主体连接处设有伸出以覆盖部分所述靶材的靶面的延伸部，所述延伸部与所述靶材的靶面间具有预定间隙；支架，用于将所述屏蔽罩安装至电弧离子镀设备的腔室内，所述屏蔽罩安装于所述支架上。
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