[实用新型]一种磁增强PECVD镀膜装置

摘要

本实用新型属于防护薄膜技术领域，涉及一种磁增强PECVD镀膜装置。所述装置包括真空室、镀膜辊组、等离子体电源和磁构件，镀膜辊组位于真空室中，基膜经过镀膜辊组时平行且相向的沿垂直于水平面方向卷绕，等离子体电源用于在镀膜辊组的空间区域内形成等离子体区；靠近基膜卷绕方向的两侧还水平对置的设置有一对磁构件，每个磁构件各自产生朝向对方侧膨胀且闭合的磁场，磁构件用于将等离子体约束在靠近基膜卷绕方向的区域内；真空室的顶部设有供气单元，真空室底部设有真空排气单元。采用所述装置镀膜时，一方面实现了有机过渡层和无机阻隔层的镀制，另一方面解决了镀膜造成的外观缺陷。同时保护辊轴不被镀上膜，非常适宜连续生产。

主权项

1.一种磁增强PECVD镀膜装置，一边在真空室内连续卷绕基膜，一边在该基膜表面形成阻隔膜，其特征在于：所述装置包括真空室、镀膜辊组、等离子体电源和磁构件，镀膜辊组位于真空室中，基膜经过镀膜辊组时平行且相向的沿垂直于水平面方向卷绕，等离子体电源包括一对极性交替反转且通有冷却水的电极，一对电极水平对置的设置在靠近基膜卷绕方向的两侧，等离子体电源用于在镀膜辊组的空间区域内形成等离子体区；靠近基膜卷绕方向的两侧还水平对置的设置有一对磁构件，每个磁构件各自产生朝向对方侧膨胀且闭合的磁场，磁构件用于将等离子体约束在靠近基膜卷绕方向的区域内；真空室的顶部设有供气单元，真空室底部设有真空排气单元。