|
|
钻瓜专利网为您找到相关结果 5595451个，建议您 升级VIP下载更多相关专利
- [发明专利]一种等离子体装置-CN201710325963.2有效
-
韦刚;苏恒毅;杨京
-
北京北方华创微电子装备有限公司
-
2017-05-10
-
2021-01-29
-
H01J37/32
- 本发明属于半导体加工技术领域，具体涉及等离子体装置。该装置包括反应腔室和设置于其中的承载装置，还包括栅网和与栅网电连接的栅网电源，栅网设置于承载装置的上方且与反应腔室的腔室壁绝缘，用于将反应腔室隔离为等离子体产生区和等离子体工艺区；且栅网的电位小于等离子体工艺区的电位、等离子体工艺区的电位小于等离子体产生区的电位。该装置可对等离子体产生区中的电子产生减速场，有效降低到达等离子体工艺区的电子的能量，从而有效降低等离子体工艺区等离子体中的电子温度，保证稳定的等离子体源和较高的等离子体密度；该等离子体装置采用连续波产生的等离子体，能降低等离子体产生和射频源匹配控制的难度，保证较大的工艺窗口。
- 一种等离子体装置
- [发明专利]一种负氢离子源系统-CN202110725106.8在审
-
高飞;王英杰;王友年
-
大连理工大学
-
2021-06-29
-
2021-09-24
-
H05H1/46
- 本发明公开了一种负氢离子源系统。该系统包括：等离子体产生装置和负氢离子引出装置；等离子体产生装置的等离子体出射口处设置负氢离子引出装置；负氢离子引出装置包括外壳、过滤磁场产生装置和扩散区；外壳内设置扩散区；外壳包括金属侧壁和金属顶面；金属顶面为静磁屏蔽面；金属顶面开设有等离子体通道；等离子体产生装置产生的等离子体从等离子体通道进入扩散区的顶部，并从扩散区的底部引出负氢离子；过滤磁场产生装置设置在金属侧壁的外部且位于扩散区的底部。本发明能够在冷却扩散区的电子的同时，避免等离子体产生装置内放电源区等离子体密度的降低。
- 一种氢离子系统
- [发明专利]一种等离子体灰指甲治疗装置-CN201910172091.X有效
-
熊紫兰;韩睿
-
华中科技大学
-
2019-03-07
-
2021-03-02
-
A61N1/44
- 本发明公开了一种等离子体灰指甲治疗装置，包括控制室、治疗室、阀门和回收室；控制室设置顶端，与其它部位分隔，用于进行控制；治疗室包括等离子体发生装置、隔离装置和治疗区，等离子体发生装置连接在控制室和治疗区之间，等离子体发生装置通过隔离装置与治疗区接触，治疗区放置处理对象，利用等离子体发生装置中产生的等离子体对处理对象进行无损伤处理；回收室位于整个装置的背部，通过阀门与治疗室联通，用于治疗完毕后回收剩余的等离子体物质本发明通过改善等离子体产生装置，使等离子体均匀分布；通过划分治疗区域，设置分开关，减少等离子体的泄露，实现目标位置的精准治疗；并在治疗完毕后，对等离子体物质进行回收，减少污染。
- 一种等离子体灰指甲治疗装置
|
