[实用新型]真空镀膜用多孔电弧靶材有效
| 申请号： | 201821814529.7 | 申请日： | 2018-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN209338649U | 公开（公告）日： | 2019-09-03 |
| 发明（设计）人： | 徐明清 | 申请（专利权）人： | 常州市迈瑞廷涂层科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) 32258 | 代理人： | 王美华 |
| 地址： | 213000 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种真空镀膜用多孔电弧靶材，包括座体及设置在座体上的电弧靶，所述座体的一端设置有凸缘，所述座体位于凸缘的一端开设有通道，所述通道沿座体轴向的一端延伸至另一端，所述电弧靶位于座体远离凸缘的一端，所述电弧靶与通道之间形成凹槽，所述电弧靶远离凹槽内的一端开设有若干盲孔，本实用新型真空镀膜用多孔电弧靶材在使用时，通过在电弧靶位于座体上远离凹槽内的一端开设若干盲孔，这样就使得电弧靶的换热面积增加，从而提高了电弧靶的换热效率，也就提高了对真空镀膜设备的冷却，电弧靶的热量降低，也就使得碳离子更活跃，涂层更加均匀，提高了产品表面光洁度。 | ||
| 搜索关键词： | 电弧靶 座体 真空镀膜 凸缘 本实用新型 盲孔 产品表面光洁度 真空镀膜设备 热效率 镀膜设备 面积增加 热量降低 一端设置 碳离子 座体轴 换热 冷却 延伸 | ||
【主权项】：
1.一种真空镀膜用多孔电弧靶材，其特征在于：包括座体(1)及设置在座体(1)上的电弧靶(4)，所述座体(1)的一端设置有凸缘(2)，所述座体(1)位于凸缘(2)的一端开设有通道(3)，所述通道(3)沿座体(1)轴向的一端延伸至另一端，所述电弧靶(4)位于座体(1)远离凸缘(2)的一端，所述电弧靶(4)与通道(3)之间形成凹槽，所述电弧靶(4)远离凹槽内的一端开设有若干盲孔(5)。
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