[实用新型]真空镀膜用多孔电弧靶材有效

专利信息
申请号: 201821814529.7 申请日: 2018-11-05
公开(公告)号: CN209338649U 公开(公告)日: 2019-09-03
发明(设计)人: 徐明清 申请(专利权)人: 常州市迈瑞廷涂层科技有限公司
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 常州市英诺创信专利代理事务所(普通合伙) 32258 代理人: 王美华
地址: 213000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 电弧靶 座体 真空镀膜 凸缘 本实用新型 盲孔 产品表面光洁度 真空镀膜设备 热效率 镀膜设备 面积增加 热量降低 一端设置 碳离子 座体轴 换热 冷却 延伸
【权利要求书】:

1.一种真空镀膜用多孔电弧靶材,其特征在于:包括座体(1)及设置在座体(1)上的电弧靶(4),所述座体(1)的一端设置有凸缘(2),所述座体(1)位于凸缘(2)的一端开设有通道(3),所述通道(3)沿座体(1)轴向的一端延伸至另一端,所述电弧靶(4)位于座体(1)远离凸缘(2)的一端,所述电弧靶(4)与通道(3)之间形成凹槽,所述电弧靶(4)远离凹槽内的一端开设有若干盲孔(5)。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜用多孔电弧靶材,其特征在于:所述电弧靶(4)螺纹连接在座体(1)上。

3.根据权利要求1或2所述的真空镀膜用多孔电弧靶材,其特征在于:若干所述盲孔(5)均匀分布在电弧靶(4)上。

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