[实用新型]真空镀膜用多孔电弧靶材

说明书

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种真空镀膜用多孔电弧靶材，包括座体及设置在座体上的电弧靶，所述座体的一端设置有凸缘，所述座体位于凸缘的一端开设有通道，所述通道沿座体轴向的一端延伸至另一端，所述电弧靶位于座体远离凸缘的一端，所述电弧靶与通道之间形成凹槽，所述电弧靶远离凹槽内的一端开设有若干盲孔，本实用新型真空镀膜用多孔电弧靶材在使用时，通过在电弧靶位于座体上远离凹槽内的一端开设若干盲孔，这样就使得电弧靶的换热面积增加，从而提高了电弧靶的换热效率，也就提高了对真空镀膜设备的冷却，电弧靶的热量降低，也就使得碳离子更活跃，涂层更加均匀，提高了产品表面光洁度。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种真空镀膜用多孔电弧靶材。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。目前在真空镀膜机镀膜时镀膜室中在蒸镀，镀膜室中残留部分未蒸镀到薄膜上的蒸气，该蒸气遇冷形成粉尘，粉尘在负压的作用下被真空泵抽走，该粉尘影响真空泵正常作业，增大真空泵的能耗，严重时甚至会损坏真空泵。真空镀膜设备扩散泵加热是用耗电量比较高的电阻丝通过烧红来烘烤真空锅炉(扩散泵)底部，从而加热里面的导热油来使真空泵里面的温度上升来达到设备的工作要求，导线接入区域温度过高会导致触电区域极易氧化虚接以及人身触电的的危险，安全性低。现有真空镀膜设备在制备涂层时，通过冷却机构对靶材进行冷却，由于热量不能够降低，使得靶材在溅射制备时，产品制备后的涂层表面粗糙度高，这就使得产品的摩擦系数增加，这样就会降低了产品的使用寿命。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是：为了解决现有真空镀膜设备在制备涂层时，通过冷却机构对靶材进行冷却，由于热量不能够降低，使得靶材在溅射制备时，产品制备后的涂层表面粗糙度高，这就使得产品的摩擦系数增加，这样就会降低了产品的使用寿命的问题，现提供了一种真空镀膜用多孔电弧靶材。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：一种真空镀膜用多孔电弧靶材，包括座体及设置在座体上的电弧靶，所述座体的一端设置有凸缘，所述座体位于凸缘的一端开设有通道，所述通道沿座体轴向的一端延伸至另一端，所述电弧靶位于座体远离凸缘的一端，所述电弧靶与通道之间形成凹槽，所述电弧靶远离凹槽内的一端开设有若干盲孔。通过在电弧靶位于座体上远离凹槽内的一端开设若干盲孔，这样就使得电弧靶的换热面积增加，从而提高了电弧靶的换热效率，也就提高了对真空镀膜设备的冷却，电弧靶的热量降低，也就使得碳离子更活跃，涂层更加均匀，提高了产品表面光洁度。

为了便于电弧靶的安装，进一步地，所述电弧靶螺纹连接在座体上。电弧靶与座体之间螺纹连接固定，这样便于电弧靶的安装和维护。

为了保证电弧靶的冷却效果，进一步地，若干所述盲孔均匀分布在电弧靶上。通过在将若干盲孔均匀分布，这样保证电弧靶上换热均匀，保证了电弧靶的冷却效果。

本实用新型的有益效果是：本实用新型真空镀膜用多孔电弧靶材在使用时，通过在电弧靶位于座体上远离凹槽内的一端开设若干盲孔，这样就使得电弧靶的换热面积增加，从而提高了电弧靶的换热效率，也就提高了对真空镀膜设备的冷却，电弧靶的热量降低，也就使得碳离子更活跃，涂层更加均匀，提高了产品表面光洁度，避免了通过冷却机构对靶材进行冷却，由于热量不能够降低，使得靶材在溅射制备时，产品制备后的涂层表面粗糙度高，这就使得产品的摩擦系数增加，这样就会降低了产品的使用寿命的问题。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型的主视图；

图2是本实用新型中电弧靶的主视图；

图3是本实用新型中电弧靶的俯视图。

图中：1、座体，2、凸缘，3、通道，4、电弧靶，5、盲孔。