[实用新型]光电经纬仪光学系统变形测试系统有效
| 申请号： | 201821544393.2 | 申请日： | 2018-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN208921103U | 公开（公告）日： | 2019-05-31 |
| 发明（设计）人： | 赵怀学;周艳;田留德;赵建科;薛勋;潘亮;胡丹丹;刘艺宁;张洁;曹昆;李坤;赛建刚;昌明 | 申请（专利权）人： | 中国科学院西安光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | G01C1/02 | 分类号： | G01C1/02;G01C25/00 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 汪海艳 |
| 地址： | 710119 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及光学系统变形量测试领域，具体涉及一种光电经纬仪光学系统变形测试系统。系统仅由目标模拟器及夹持机构组成，测试时，将目标模拟器通过夹持机构固定在待测光电经纬仪上，每调整一次光电经纬仪的俯仰角度，记录一次目标脱靶量，最后通过最小二乘法拟合光电经纬仪指向精度系统误差修正曲线，旨在实现光电经纬仪在不同俯仰角下，光学系统方位和俯仰方向变形量的连续采样和高精度测量，提高光电经纬仪指向精度。 | ||
| 搜索关键词： | 光电经纬仪 光学系统 变形测试系统 目标模拟器 俯仰 夹持机构 指向 最小二乘法拟合 系统误差修正 本实用新型 变形量测试 高精度测量 目标脱靶量 连续采样 变形量 俯仰角 经纬 测试 记录 | ||
【主权项】：
1.一种光电经纬仪光学系统变形测试系统，其特征在于：包括目标模拟器(1)及夹持机构(2)，所述夹持机构(2)用于将目标模拟器(1)固定在待测光电经纬仪(3)上，并使得目标模拟器(1)位于待测光电经纬仪(3)的视场范围内。
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