[实用新型]涂胶显影机台有效
| 申请号： | 201821542299.3 | 申请日： | 2018-09-20 |
| 公开（公告）号： | CN208903073U | 公开（公告）日： | 2019-05-24 |
| 发明（设计）人： | 张党柱;赖政聪;古哲安;黄志凯;叶日铨 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/16 | 分类号： | G03F7/16;G03F7/26 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 余明伟 |
| 地址： | 223300 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型提供一种涂胶显影机台，包括晶圆承载台及检测晶圆正面的光刻胶层的检测装置；检测装置位于晶圆的上方。本实用新型的涂胶显影机台能够对完成光刻胶喷涂的晶圆第一时间进行在线检测，以及时发现存在的光刻胶涂布不良的问题，便于工作人员尽快采取补救措施，比如重新进行涂布及/或进行设备检修，避免现有技术中因无法第一时间发现光刻胶涂布不良，导致后续的返工工作量增加，以及由此引发的设备产出率下降、不良率增加、生产成本上升等问题。本实用新型的涂胶显影机台结构简单，使用方便。采用本实用新型的涂胶显影机台，有助于提高光刻胶涂布质量，提高生产良率。 | ||
| 搜索关键词： | 涂胶显影机台 本实用新型 光刻胶涂布 检测装置 晶圆 光刻胶喷涂 晶圆承载台 设备产出率 涂胶显影机 补救措施 光刻胶层 晶圆正面 设备检修 在线检测 不良率 返工 良率 生产成本 工作量 发现 检测 生产 | ||
【主权项】：
1.一种涂胶显影机台，其特征在于，包括：承载晶圆的晶圆承载台；检测所述晶圆正面的光刻胶层的检测装置，位于所述晶圆的上方；所述检测装置包括用于抓取涂布所述光刻胶层后的所述晶圆正面图像的CCD相机或CMOS相机，所述涂胶显影机台还包括对所述检测装置的检测结果进行分析的分析装置，所述分析装置与所述检测装置相连接；或，所述检测装置包括多个测量所述光刻胶层厚度的厚度传感器。
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