[实用新型]研磨垫

摘要

本实用新型提供一种研磨垫，包括研磨层、至少一检测窗、黏着层、离型层及检测窗保护层。研磨层具有彼此相对的研磨面及背面。至少一检测窗位于研磨层中。黏着层配置于研磨层的背面下方，且黏着层具有至少一第一开口暴露出至少一检测窗。离型层配置于黏着层的下方，且离型层具有至少一第二开口暴露出至少一检测窗。检测窗保护层连接于离型层且横跨至少一第二开口。因此，本实用新型提供的研磨垫能够有效保护检测窗不受到外来物沾附，进而使得在研磨工艺期间，检测窗能够提供完善的检测效果。

主权项

1.一种研磨垫，其特征在于，包括：研磨层，具有彼此相对的研磨面及背面；至少一检测窗，位于所述研磨层中，且所述检测窗的底面与所述研磨层的所述背面共平面；黏着层，配置于所述研磨层的所述背面下方，所述黏着层具有至少一第一开口暴露出所述至少一检测窗；离型层，配置于所述黏着层的下方，所述离型层具有至少一第二开口暴露出所述至少一检测窗；以及检测窗保护层，连接于所述离型层且横跨所述至少一第二开口，其中所述至少一检测窗的边缘对齐所述至少一第一开口与所述至少一第二开口的边缘。