[实用新型]研磨垫

权利要求书

1.一种研磨垫，其特征在于，包括：

研磨层，具有彼此相对的研磨面及背面；

至少一检测窗，位于所述研磨层中，且所述检测窗的底面与所述研磨层的所述背面共平面；

黏着层，配置于所述研磨层的所述背面下方，所述黏着层具有至少一第一开口暴露出所述至少一检测窗；

离型层，配置于所述黏着层的下方，所述离型层具有至少一第二开口暴露出所述至少一检测窗；以及

检测窗保护层，连接于所述离型层且横跨所述至少一第二开口，

其中所述至少一检测窗的边缘对齐所述至少一第一开口与所述至少一第二开口的边缘。

2.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述检测窗保护层在可见光下具有透光性。

3.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述检测窗保护层包括离型膜、胶带或静电吸附膜。

4.根据权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，所述检测窗保护层的面积大于所述检测窗的面积且小于或等于所述研磨垫的面积。

5.一种研磨垫，其特征在于，包括：

研磨层，具有彼此相对的研磨面及背面；

至少一检测窗，位于所述研磨层中，且所述检测窗的底面与所述研磨层的所述背面共平面；

黏着层，配置于所述研磨层的所述背面下方，所述黏着层具有至少一开口暴露出所述至少一检测窗；以及

检测窗保护层，配置于所述黏着层的下方且横跨所述至少一开口，

其中所述至少一检测窗的边缘对齐所述至少一开口的边缘。

6.根据权利要求5所述的研磨垫，其特征在于，所述检测窗保护层在可见光下具有透光性。

7.根据权利要求5所述的研磨垫，其特征在于，所述检测窗保护层包括离型膜。

8.根据权利要求7所述的研磨垫，其特征在于，所述离型膜的材料包括聚酰亚胺、聚酯、聚乙烯、聚丙烯、含硅酮聚合物或含氟素聚合物。

9.根据权利要求5所述的研磨垫，其特征在于，所述检测窗保护层的面积等于所述研磨垫的面积。

10.一种研磨垫，其特征在于，包括：

研磨层，具有彼此相对的研磨面及背面；

至少一检测窗，位于所述研磨层中，且所述检测窗的底面与所述研磨层的所述背面共平面；

第一黏着层，配置于所述研磨层的所述背面下方，所述第一黏着层具有至少一第一开口暴露出所述至少一检测窗；

基底层，配置于所述第一黏着层的下方，所述基底层具有至少一第二开口暴露出所述至少一检测窗；

第二黏着层，配置于所述基底层的下方，所述第二黏着层具有至少一第三开口暴露出所述至少一检测窗；

离型层，配置于所述第二黏着层的下方，所述离型层具有至少一第四开口暴露出所述至少一检测窗；以及

检测窗保护层，连接于所述离型层且横跨所述至少一第四开口，

其中所述至少一检测窗的边缘对齐所述至少一第一开口、所述至少一第二开口、所述至少一第三开口及所述至少一第四开口的边缘。

11.根据权利要求10所述的研磨垫，其特征在于，检测窗保护层在可见光下具有透光性。

12.根据权利要求10所述的研磨垫，其特征在于，所述检测窗保护层包括离型膜、胶带或静电吸附膜。

13.根据权利要求10所述的研磨垫，其特征在于，所述检测窗保护层的面积大于所述检测窗的面积且小于或等于所述研磨垫的面积。