[实用新型]研磨垫

说明书

本实用新型提供一种研磨垫，包括研磨层、至少一检测窗、黏着层、离型层及检测窗保护层。研磨层具有彼此相对的研磨面及背面。至少一检测窗位于研磨层中。黏着层配置于研磨层的背面下方，且黏着层具有至少一第一开口暴露出至少一检测窗。离型层配置于黏着层的下方，且离型层具有至少一第二开口暴露出至少一检测窗。检测窗保护层连接于离型层且横跨至少一第二开口。因此，本实用新型提供的研磨垫能够有效保护检测窗不受到外来物沾附，进而使得在研磨工艺期间，检测窗能够提供完善的检测效果。

技术领域

本实用新型涉及一种研磨垫，尤其涉及一种检测窗受到保护的研磨垫。

背景技术

在产业的元件制造过程中，研磨工艺是现今较常使用来使待研磨的物件表面达到平坦化的一种技术。在研磨工艺中，物件是通过其本身与研磨垫彼此进行相对运动，以及选择于物件表面及研磨垫之间提供一研磨液来进行研磨。

对于具有光学检测系统的研磨设备，研磨垫的研磨层的某部分区域通常设置有检测窗，其功能是当使用此研磨垫对物件进行研磨时，使用者可通过研磨设备的光学检测系统，通过检测窗来检测物件的研磨情况，以作为研磨工艺的终点检测(End-PointDetection)并确保研磨品质。一般而言，为了使操作人员在进行装置研磨垫于研磨平台时能准确的将检测窗与研磨平台上的光学检测系统进行对位贴合以执行研磨工艺的终点检测，检测窗的设计会暴露于环境中，因此在进入研磨工艺前研磨垫的运送及存放的过程中或是进行装置研磨垫的过程中，检测窗容易沾附脏污或是碰到尖锐的外来物而产生刮伤，进而影响检测效果。进一步而言，操作人员在开始进行研磨程序之前会以水先清洗包含检测窗顶面的研磨面，以去除研磨垫表面的脏污；但与研磨层背面共平面的检测窗底面的脏污或刮伤却较不易清除或不易发觉，也因此若在研磨工艺进行前，检测窗底面沾附脏污又无法清除的状况下，将影响光学检测的效果进而影响研磨品质。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型提供一种研磨垫，其能够有效保护检测窗不受到外来物沾附，进而使得在研磨工艺期间，检测窗能够提供完善的检测效果。

本实用新型的研磨垫包括研磨层、至少一检测窗、黏着层、离型层以及检测窗保护层。研磨层具有彼此相对的研磨面及背面。至少一检测窗位于研磨层中，且检测窗的底面与研磨层的背面共平面。黏着层配置于研磨层的背面下方，且黏着层具有至少一第一开口暴露出至少一检测窗。离型层配置于黏着层的下方，且离型层具有至少一第二开口暴露出至少一检测窗。检测窗保护层连接于离型层且横跨至少一第二开口，其中至少一检测窗的边缘对齐至少一第一开口与至少一第二开口的边缘。

本实用新型的研磨垫，其中所述检测窗保护层在可见光下具有透光性。

本实用新型的研磨垫，其中所述检测窗保护层包括离型膜、胶带或静电吸附膜。

本实用新型的研磨垫，其中所述检测窗保护层的面积大于所述检测窗的面积且小于或等于所述研磨垫的面积。

本实用新型的研磨垫包括研磨层、至少一检测窗、黏着层以及检测窗保护层。研磨层具有彼此相对的研磨面及背面。至少一检测窗位于研磨层中，且检测窗的底面与研磨层的背面共平面。黏着层配置于研磨层的背面下方，且黏着层具有至少一开口暴露出至少一检测窗。检测窗保护层配置于黏着层的下方且横跨至少一开口，其中至少一检测窗的边缘对齐至少一第一开口与至少一第二开口的边缘。

本实用新型的研磨垫，其中所述检测窗保护层在可见光下具有透光性。

本实用新型的研磨垫，其中所述检测窗保护层包括离型膜。

本实用新型的研磨垫，其中所述离型膜的材料包括聚酰亚胺、聚酯、聚乙烯、聚丙烯、含硅酮聚合物或含氟素聚合物。

本实用新型的研磨垫，其中所述检测窗保护层的面积等于所述研磨垫的面积。