[实用新型]管理半导体传送盒内部洁净度的仓储工作站有效
| 申请号： | 201821203546.7 | 申请日： | 2018-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN208796963U | 公开（公告）日： | 2019-04-26 |
| 发明（设计）人： | 游宏程;张志逢;陈伟仁;刘家诚;林展永 | 申请（专利权）人： | 东捷科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/677;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;祁建国 |
| 地址： | 中国台湾台南*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种管理半导体传送盒内部洁净度的的仓储工作站，包括暂存装置、搬送装置、气体净化装置及监控装置。暂存装置具有多个第一停泊位置及一第二停泊位置。该多个第一停泊位置及第二停泊位置允许存放多个半导体传送盒。搬送装置连接暂存装置，且搬送多个半导体传送盒至该多个第一停泊位置及第二停泊位置。气体净化装置连接暂存装置，且位于第二停泊位置，并用以对第二停泊位置上的半导体传送盒进行气体净化作业。监控装置耦接搬送装置及气体净化装置，且控制搬送装置及气体净化装置。 | ||
| 搜索关键词： | 停泊位置 传送盒 气体净化装置 搬送装置 暂存装置 半导体 管理半导体 监控装置 洁净度 工作站 仓储 本实用新型 气体净化 耦接 并用 | ||
【主权项】：
1.一种管理半导体传送盒内部洁净度的仓储工作站，其特征在于，包括：一暂存装置，具有多个第一停泊位置及一第二停泊位置，该多个第一停泊位置及该第二停泊位置允许存放多个半导体传送盒；一搬送装置，连接该暂存装置，且搬送该多个半导体传送盒至该多个第一停泊位置及该第二停泊位置；一气体净化装置，连接该暂存装置，且位于该第二停泊位置，并用以对该第二停泊位置上的该半导体传送盒进行一气体净化作业；及一监控装置，耦接该搬送装置及该气体净化装置，且控制该搬送装置及该气体净化装置。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
