[实用新型]一种提高光提取效率的深紫外发光二极管芯片有效

专利信息
申请号: 201821104745.2 申请日: 2018-07-12
公开(公告)号: CN208938998U 公开(公告)日: 2019-06-04
发明(设计)人: 武良文 申请(专利权)人: 江西兆驰半导体有限公司
主分类号: H01L33/24 分类号: H01L33/24;H01L33/32;H01L33/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 330000 江西省南昌市南昌高新技*** 国省代码: 江西;36
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摘要: 实用新型公开了一种提高光提取效率的深紫外发光二极管芯片,包括n型半导体层、锥形坑准备层、有源层、p型半导体层、p型电极、反射层、键合层、n型电极、基板;其中:锥形坑准备层位于n型半导体层之上,有源层位于锥形坑准备层之上,p型半导体层位于有源层之上,n型半导体层上形成有n型电极,p型半导体层上形成有p型电极,p型电极和基板之间依序形成有反射层和键合层,所述有源层中形成六方多面结构的锥形坑。本实用新型的优点在于:通过在有源层中形成六方多面的锥形坑,改变有源层中TM模偏振光的出光方向,使TM模偏振光不需在接近有源层附近进行长路径传播,进而提高深紫外发光二极管的光提取效率。
搜索关键词: 源层 锥形坑 深紫外发光二极管 光提取效率 偏振光 本实用新型 反射层 键合层 基板 芯片 多面结构 长路径 传播
【主权项】:
1.一种提高光提取效率的深紫外发光二极管芯片,包括n型半导体层(2)、锥形坑准备层(3)、有源层(4)、p型半导体层(5)、p型电极(6)、反射层(7)、键合层(8)、n型电极(9)、基板(10);其特征在于:锥形坑准备层(3)位于n型半导体层(2)之上,有源层(4)位于锥形坑准备层(3)之上,p型半导体层(5)位于有源层(4)之上,n型半导体层(2)上形成有n型电极(9),p型半导体层(5)上形成有p型电极(6),p型电极(6)和基板(10)之间依序形成有反射层(7)和键合层(8),所述有源层(4)中形成六方多面结构的锥形坑,且连接所述锥形坑的平台区的投影面积与整个有源层(4)的投影面积的比值小于30%。
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