[实用新型]一种基于光路复用的双光纤光栅刻写装置

摘要

本实用新型涉及一种基于光路复用的双光纤光栅刻写装置，包括准分子激光器、光阑、半透半反镜、全反射镜、第一光纤光栅刻写平台、第二光纤光栅刻写平台、光纤、光纤控制装置；准分子激光器出光口处设置有光阑，光阑对光斑的形状进行调整；光阑调整后的光经过设置的半透半反镜后被一分为二，二分之一的光被反射到第一光纤光栅刻写平台，另外二分之一的光经过全反射镜到第二光纤光栅刻写平台；光纤固定在第一光纤光栅刻写平台和第二光纤光栅刻写平台，光纤一端与光纤控制装置相连，另一端外露在空气中。本实用新型实现准分子激光器操作一次完成两个光纤光栅区域的刻写，降低了准分子激光器的工作脉冲次数，延长准分子气体的更换周期，节省了生产成本。

主权项

1.一种基于光路复用的双光纤光栅刻写装置，包括准分子激光器、光阑、半透半反镜、全反射镜、第一光纤光栅刻写平台、第二光纤光栅刻写平台、光纤、光纤控制装置；所述准分子激光器出光口处设置有光阑，所述光阑对光斑的形状进行调整；所述光阑调整后的光经过设置的半透半反镜后被一分为二，二分之一的光被反射到第一光纤光栅刻写平台，另外二分之一的光经过全反射镜到第二光纤光栅刻写平台；所述光纤固定在第一光纤光栅刻写平台和第二光纤光栅刻写平台，所述光纤一端与光纤控制装置相连，另一端外露在空气中；所述第一光纤光栅刻写平台，包括第一紫外吸收档板、第一柱面透镜、第一相位掩模板、第一光纤夹具、第二光纤夹具；所述第一紫外吸收档板设置在半透半反射镜下方，用于收集反射的光；所述第一柱面透镜设置在第一紫外吸收档板下方，通过第一柱面透镜将第一紫外吸收档板收集的光聚焦成一条直线，并透过下方设置的第一相位掩模板衍射作用与下方第一光纤夹具、第二光纤夹具之间固定的光纤段，完成第一段光纤光栅刻写；所述第二光纤光栅刻写平台，包括第二紫外吸收档板、第二柱面透镜、第二相位掩模板、第三光纤夹具、第四光纤夹具；所述第二紫外吸收档板设置在全反射镜下方，用于收集反射的光；所述第二柱面透镜设置在第二紫外吸收档板下方，通过第二柱面透镜将第二紫外吸收档板收集的光聚焦成一条直线，并透过下方设置的第二相位掩模板衍射作用与下方第三光纤夹具、第四光纤夹具之间固定的光纤段，完成第二段光纤光栅刻写。