[实用新型]一种基于光路复用的双光纤光栅刻写装置

权利要求书

1.一种基于光路复用的双光纤光栅刻写装置，包括准分子激光器、光阑、半透半反镜、全反射镜、第一光纤光栅刻写平台、第二光纤光栅刻写平台、光纤、光纤控制装置；所述准分子激光器出光口处设置有光阑，所述光阑对光斑的形状进行调整；所述光阑调整后的光经过设置的半透半反镜后被一分为二，二分之一的光被反射到第一光纤光栅刻写平台，另外二分之一的光经过全反射镜到第二光纤光栅刻写平台；所述光纤固定在第一光纤光栅刻写平台和第二光纤光栅刻写平台，所述光纤一端与光纤控制装置相连，另一端外露在空气中；

所述第一光纤光栅刻写平台，包括第一紫外吸收档板、第一柱面透镜、第一相位掩模板、第一光纤夹具、第二光纤夹具；所述第一紫外吸收档板设置在半透半反射镜下方，用于收集反射的光；所述第一柱面透镜设置在第一紫外吸收档板下方，通过第一柱面透镜将第一紫外吸收档板收集的光聚焦成一条直线，并透过下方设置的第一相位掩模板衍射作用与下方第一光纤夹具、第二光纤夹具之间固定的光纤段，完成第一段光纤光栅刻写；

所述第二光纤光栅刻写平台，包括第二紫外吸收档板、第二柱面透镜、第二相位掩模板、第三光纤夹具、第四光纤夹具；所述第二紫外吸收档板设置在全反射镜下方，用于收集反射的光；所述第二柱面透镜设置在第二紫外吸收档板下方，通过第二柱面透镜将第二紫外吸收档板收集的光聚焦成一条直线，并透过下方设置的第二相位掩模板衍射作用与下方第三光纤夹具、第四光纤夹具之间固定的光纤段，完成第二段光纤光栅刻写。

2.根据权利要求1所述的一种基于光路复用的双光纤光栅刻写装置，其特征在于：所述光纤控制装置，包括光纤监控装置和电机驱动装置，所述光纤监控装置与光纤相连，用于实时检测光纤光栅刻写情况；所述电机驱动装置与第一紫外吸收档板和第二紫外吸收档板相连，用于控制第一紫外吸收档板和第二紫外吸收档板的开启和闭合。

3.根据权利要求1所述的一种基于光路复用的双光纤光栅刻写装置，其特征在于：所述第一紫外吸收档板和第二紫外吸收档板中位于光轴的位置设置一小孔，开启的情况下光斑可从通孔中经过，闭合时则阻挡住光通过第一紫外吸收档板和第二紫外吸收档板反射。

4.根据权利要求1所述的一种基于光路复用的双光纤光栅刻写装置，其特征在于：所述光纤设置在第一光纤夹具、第二光纤夹具和第三光纤夹具、第四光纤夹具之间固定的光纤光栅区域通过高压载氢处理，不设有涂覆层，保证光纤光栅的刻写；所述光纤在非光纤光栅区域设置有涂覆层，保护光纤不受损坏。

5.根据权利要求1所述的一种基于光路复用的双光纤光栅刻写装置，其特征在于：所述第一紫外吸收档板、第一柱面透镜、第一相位掩模板、第一光纤夹具、第二光纤夹具，形成间隔性纵向垂直结构。

6.根据权利要求1所述的一种基于光路复用的双光纤光栅刻写装置，其特征在于：所述第二紫外吸收档板、第二柱面透镜、第二相位掩模板、第三光纤夹具、第四光纤夹具，形成间隔性纵向垂直结构。

7.根据权利要求1所述的一种基于光路复用的双光纤光栅刻写装置，其特征在于：所述准分子激光器、光阑、半透半反镜、全反射镜，依次横向水平方向间隔性分布设置，所述半透半反镜、全反射镜与水平方向倾斜形成大于90度并小于180度的夹角。

8.根据权利要求1所述的一种基于光路复用的双光纤光栅刻写装置，其特征在于：所述准分子激光器、光阑、半透半反镜、全反射镜、第一光纤光栅刻写平台、第二光纤光栅科技型平台、光纤、光纤控制装置，设置固定于光学防震平台上。