[实用新型]环形单晶无机非金属部件的制作设备及飞轮有效
申请号: | 201820859837.5 | 申请日: | 2018-06-04 |
公开(公告)号: | CN208362459U | 公开(公告)日: | 2019-01-11 |
发明(设计)人: | 靳普 | 申请(专利权)人: | 至玥腾风科技投资集团有限公司 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/32;C23C16/40;C23C16/517;C30B25/00 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;黄灿 |
地址: | 100088 北京市西城*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本实用新型提供环形单晶无机非金属部件的制作设备及飞轮,其中制作设备包括:制备容器、基体和基体控制组件;制备容器包括微波室和等离子室,微波室与等离子室隔离,微波室内设置有微波发生器,等离子室设置有进气口和真空装置,真空装置用于将等离子室抽真空,并控制等离子室内的气压,从进气口进入等离子室中的原料气体能够在微波激励下形成等离子体;基体设置于等离子室内的等离子体分布区域,基体控制组件用于控制基体旋转,以使等离子体沉积于基体的外圆周面形成环形单晶无机非金属部件。该环形单晶无机非金属部件具备高硬度、高导热性以及低热膨胀系数等性能,可以作为飞轮使用于飞轮储能器,从而使得高储能密度的飞轮制作成为可能。 | ||
搜索关键词: | 等离子室 飞轮 无机非金属 单晶 制作设备 进气口 控制组件 真空装置 制备容器 等离子 微波室 室内 等离子体 等离子体沉积 等离子体分布 低热膨胀系数 本实用新型 飞轮储能器 微波发生器 高导热性 外圆周面 微波激励 原料气体 抽真空 高储能 高硬度 气压 微波 隔离 制作 | ||
【主权项】:
1.一种环形单晶无机非金属部件的制作设备,其特征在于,用于制作环形单晶无机非金属部件,所述制作设备包括:制备容器、基体和基体控制组件;所述制备容器包括微波室和等离子室,所述微波室与所述等离子室隔离,所述微波室内设置有微波发生器,所述等离子室设置有进气口和真空装置,所述真空装置用于将所述等离子室抽真空,并控制所述等离子室内的气压,从所述进气口进入所述等离子室中的原料气体能够在微波激励下形成等离子体;所述基体设置于所述等离子室内的等离子体分布区域,所述基体控制组件用于控制所述基体旋转,以使等离子体沉积于所述基体的外圆周面形成环形单晶无机非金属部件。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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