[实用新型]一种掩膜版组件有效
| 申请号： | 201820576296.5 | 申请日： | 2018-04-23 |
| 公开（公告）号： | CN208224711U | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | 曹阿江 | 申请（专利权）人： | 湖州博立科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/00 | 分类号： | G03F1/00 |
| 代理公司： | 杭州新源专利事务所(普通合伙) 33234 | 代理人： | 李大刚 |
| 地址： | 313009 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种掩膜版组件,包括下掩膜版(1)，下掩膜版(1)两侧的上部还设有导槽(14),下掩膜版(1)上还设有一个以上的下槽口(12)，下槽口(12)与导槽(14)垂直；下掩膜版(1)通过导槽(14)连接有上掩膜版(2)，上掩膜版(2)上设有与下槽口(12)对应的上槽口(22)，上槽口(22)和下槽口(12)平行且形状相同，上掩膜版(2)与导槽(14)垂直的侧边还设有凸板(23)。本实用新型具有制备出的导线宽度可以调整，可以适应灵活多变的实验方案的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 下槽口 导槽 本实用新型 上槽口 垂直的 侧边 凸板 制备 平行 垂直 灵活 | ||
【主权项】：
1.一种掩膜版组件，其特征在于：包括下掩膜版(1)，下掩膜版(1)两侧的上部还设有导槽(14),下掩膜版(1)上还设有一个以上的下槽口(12)，下槽口(12)与导槽(14)垂直；下掩膜版(1)通过导槽(14)连接有上掩膜版(2)，上掩膜版(2)上设有与下槽口(12)对应的上槽口(22)，上槽口(22)和下槽口(12)平行且形状相同，上掩膜版(2)与导槽(14)垂直的侧边还设有凸板(23)。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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