[实用新型]一种L形半导体加工部件电弧溶射专用保护治具有效

专利信息
申请号: 201820536364.5 申请日: 2018-04-16
公开(公告)号: CN208067541U 公开(公告)日: 2018-11-09
发明(设计)人: 熊志红;张远 申请(专利权)人: 深圳仕上电子科技有限公司
主分类号: B23K9/32 分类号: B23K9/32;B23K101/40
代理公司: 深圳市汉唐知识产权代理有限公司 44399 代理人: 刘海军
地址: 518000 广东省深圳市宝安区*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开一种L形半导体加工部件电弧溶射专用保护治具,保护治具包括第一主体和第二主体,第一主体和第二主体相对设置,第一主体和第二主体均呈“L”形,第一主体内开设有第一容置槽,第二主体内开设有第二容置槽,第一容置槽和第二容置槽均呈条形,第一容置槽和第二容置槽相对设置,第一主体和第二主体上分别开设有有溶射窗口,第一主体上的溶射窗口与第一容置槽相连通,第二主体上的溶射窗口与第二容置槽相连通,溶射窗口开设在第一主体和第二主体的“L”形拐弯处内侧。本实用新型采用特殊的结构设计,可方便的将待加工工件放入其中,外部仅保留需要溶射处理部分,其放入、取出都非常方便,极大的提升了加工效率。
搜索关键词: 容置槽 治具 半导体加工部件 电弧 本实用新型 相对设置 专用保护 放入 内开 待加工工件 加工效率 拐弯处 取出 保留 外部
【主权项】:
1.一种L形半导体加工部件电弧溶射专用保护治具,其特征是:所述的保护治具包括第一主体和第二主体,第一主体和第二主体相对设置,第一主体和第二主体均呈“L”形,第一主体内开设有第一容置槽,第二主体内开设有第二容置槽,第一容置槽和第二容置槽均呈条形,第一容置槽和第二容置槽相对设置,第一主体和第二主体上分别开设有有溶射窗口,第一主体上的溶射窗口与第一容置槽相连通,第二主体上的溶射窗口与第二容置槽相连通,溶射窗口开设在第一主体和第二主体的“L”形拐弯处内侧。
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