[实用新型]一种L形半导体加工部件电弧溶射专用保护治具有效
申请号: | 201820536364.5 | 申请日: | 2018-04-16 |
公开(公告)号: | CN208067541U | 公开(公告)日: | 2018-11-09 |
发明(设计)人: | 熊志红;张远 | 申请(专利权)人: | 深圳仕上电子科技有限公司 |
主分类号: | B23K9/32 | 分类号: | B23K9/32;B23K101/40 |
代理公司: | 深圳市汉唐知识产权代理有限公司 44399 | 代理人: | 刘海军 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝安区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开一种L形半导体加工部件电弧溶射专用保护治具,保护治具包括第一主体和第二主体,第一主体和第二主体相对设置,第一主体和第二主体均呈“L”形,第一主体内开设有第一容置槽,第二主体内开设有第二容置槽,第一容置槽和第二容置槽均呈条形,第一容置槽和第二容置槽相对设置,第一主体和第二主体上分别开设有有溶射窗口,第一主体上的溶射窗口与第一容置槽相连通,第二主体上的溶射窗口与第二容置槽相连通,溶射窗口开设在第一主体和第二主体的“L”形拐弯处内侧。本实用新型采用特殊的结构设计,可方便的将待加工工件放入其中,外部仅保留需要溶射处理部分,其放入、取出都非常方便,极大的提升了加工效率。 | ||
搜索关键词: | 容置槽 治具 半导体加工部件 电弧 本实用新型 相对设置 专用保护 放入 内开 待加工工件 加工效率 拐弯处 取出 保留 外部 | ||
【主权项】:
1.一种L形半导体加工部件电弧溶射专用保护治具,其特征是:所述的保护治具包括第一主体和第二主体,第一主体和第二主体相对设置,第一主体和第二主体均呈“L”形,第一主体内开设有第一容置槽,第二主体内开设有第二容置槽,第一容置槽和第二容置槽均呈条形,第一容置槽和第二容置槽相对设置,第一主体和第二主体上分别开设有有溶射窗口,第一主体上的溶射窗口与第一容置槽相连通,第二主体上的溶射窗口与第二容置槽相连通,溶射窗口开设在第一主体和第二主体的“L”形拐弯处内侧。
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