[实用新型]一种栅极嵌入小岛式可控硅静电防护器件有效

专利信息
申请号: 201820385368.8 申请日: 2018-03-21
公开(公告)号: CN207938608U 公开(公告)日: 2018-10-02
发明(设计)人: 汪洋;郑亦菲;董鹏;骆生辉;金湘亮 申请(专利权)人: 湖南静芯微电子技术有限公司
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02
代理公司: 湘潭市汇智专利事务所(普通合伙) 43108 代理人: 颜昌伟
地址: 410199 湖南省长沙市经济*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 实用新型公开了一种栅极嵌入小岛式可控硅静电防护器件,包括P型衬底;P型衬底内设有P阱和N型深阱;P阱内设有第一P+注入区、第一N+注入区、第一Poly注入层、第二P+注入区,第二Poly注入层跨接在P阱和N型深阱之间,N型深阱内设有第二N+注入区、第三P+注入区、第三N+注入区,所述第一N+注入区、第一P+注入区、第一Poly注入层、第二Poly注入层连接在一起作为器件的阴极;所述第三P+注入区和第四N+注入区连接在一起作为器件的阳极。本实用新型的可控硅静电防护器件在其栅极嵌入悬浮P+层,可在降低器件触发电压的同时增强器件维持电压,且不改变器件面积,可使用标准工艺与被保护电路片上集成。
搜索关键词: 注入区 注入层 可控硅静电防护器件 嵌入 本实用新型 衬底 小岛 阴极 标准工艺 触发电压 改变器件 降低器件 维持电压 阳极 电路片 跨接 悬浮
【主权项】:
1.一种栅极嵌入小岛式可控硅静电防护器件,其特征在于:包括P型衬底;P型衬底内从左至右设有P阱和N型深阱;所述P阱内从左到右依次设有第一P+注入区、第一N+注入区、第一Poly注入层、第二P+注入区,第二Poly注入层跨接在P阱和N型深阱之间,N型深阱内从左到右依次设有第二N+注入区、第三P+注入区、第三N+注入区,所述第一N+注入区、第一P+注入区、第一Poly注入层、第二Poly注入层连接在一起作为器件的阴极;所述第三P+注入区和第四N+注入区连接在一起作为器件的阳极。
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