[实用新型]一种化学气相沉积炉的基体支撑装置及基体旋转驱动装置有效
申请号: | 201820349599.3 | 申请日: | 2018-03-14 |
公开(公告)号: | CN208201119U | 公开(公告)日: | 2018-12-07 |
发明(设计)人: | 周玉燕;林培英;黄洪福;朱佰喜 | 申请(专利权)人: | 深圳市志橙半导体材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 广州市天河庐阳专利事务所(普通合伙) 44244 | 代理人: | 胡济元 |
地址: | 518054 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型公开一种化学气相沉积炉中的基体支撑装置,包括支撑架、若干个沿着圆周方向设在支撑架上的滚动槽以及设在每个滚动槽中用于支撑基体的滚球,所述支撑架上设有用于限制基体离心甩出的挡块。该基体支撑装置不但可以支撑质量大小不同的基体,且支撑处不会产生无薄膜的缺口,使得基体表面能均匀地一次沉积到所需的薄膜,既提高了基体的表面质量,也降低了成本。本实用新型还公开一种化学气相沉积炉中的基体旋转驱动装置,包括转盘、驱动转盘转动的转盘驱动机构以及若干个基体支撑装置,所述转盘的转动中心构成公转中心,支撑架与转盘之间的转动结构的中心构成自转中心;所述转盘上设有驱动支撑架绕着自转中心转动的自转驱动机构。 | ||
搜索关键词: | 支撑架 支撑装置 转盘 化学气相沉积炉 旋转驱动装置 本实用新型 自转中心 滚动槽 薄膜 转动 转盘驱动机构 自转驱动机构 公转中心 基体表面 驱动转盘 支撑基体 转动结构 转动中心 支撑 沉积 挡块 滚球 甩出 驱动 | ||
【主权项】:
1.一种化学气相沉积炉的基体支撑装置,其特征在于,包括支撑架、若干个沿着圆周方向设在支撑架上的滚动槽以及设在每个滚动槽中用于支撑基体的滚球,所述支撑架上设有用于限制基体离心甩出的挡块。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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