[实用新型]一种化学气相沉积炉的基体支撑装置及基体旋转驱动装置有效

专利信息
申请号: 201820349599.3 申请日: 2018-03-14
公开(公告)号: CN208201119U 公开(公告)日: 2018-12-07
发明(设计)人: 周玉燕;林培英;黄洪福;朱佰喜 申请(专利权)人: 深圳市志橙半导体材料有限公司
主分类号: C23C16/458 分类号: C23C16/458
代理公司: 广州市天河庐阳专利事务所(普通合伙) 44244 代理人: 胡济元
地址: 518054 广东省深圳市南*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开一种化学气相沉积炉中的基体支撑装置,包括支撑架、若干个沿着圆周方向设在支撑架上的滚动槽以及设在每个滚动槽中用于支撑基体的滚球,所述支撑架上设有用于限制基体离心甩出的挡块。该基体支撑装置不但可以支撑质量大小不同的基体,且支撑处不会产生无薄膜的缺口,使得基体表面能均匀地一次沉积到所需的薄膜,既提高了基体的表面质量,也降低了成本。本实用新型还公开一种化学气相沉积炉中的基体旋转驱动装置,包括转盘、驱动转盘转动的转盘驱动机构以及若干个基体支撑装置,所述转盘的转动中心构成公转中心,支撑架与转盘之间的转动结构的中心构成自转中心;所述转盘上设有驱动支撑架绕着自转中心转动的自转驱动机构。
搜索关键词: 支撑架 支撑装置 转盘 化学气相沉积炉 旋转驱动装置 本实用新型 自转中心 滚动槽 薄膜 转动 转盘驱动机构 自转驱动机构 公转中心 基体表面 驱动转盘 支撑基体 转动结构 转动中心 支撑 沉积 挡块 滚球 甩出 驱动
【主权项】:
1.一种化学气相沉积炉的基体支撑装置,其特征在于,包括支撑架、若干个沿着圆周方向设在支撑架上的滚动槽以及设在每个滚动槽中用于支撑基体的滚球,所述支撑架上设有用于限制基体离心甩出的挡块。
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