[实用新型]一种化学气相沉积炉的基体支撑装置及基体旋转驱动装置有效
申请号: | 201820349599.3 | 申请日: | 2018-03-14 |
公开(公告)号: | CN208201119U | 公开(公告)日: | 2018-12-07 |
发明(设计)人: | 周玉燕;林培英;黄洪福;朱佰喜 | 申请(专利权)人: | 深圳市志橙半导体材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458 |
代理公司: | 广州市天河庐阳专利事务所(普通合伙) 44244 | 代理人: | 胡济元 |
地址: | 518054 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 支撑架 支撑装置 转盘 化学气相沉积炉 旋转驱动装置 本实用新型 自转中心 滚动槽 薄膜 转动 转盘驱动机构 自转驱动机构 公转中心 基体表面 驱动转盘 支撑基体 转动结构 转动中心 支撑 沉积 挡块 滚球 甩出 驱动 | ||
1.一种化学气相沉积炉的基体支撑装置,其特征在于,包括支撑架、若干个沿着圆周方向设在支撑架上的滚动槽以及设在每个滚动槽中用于支撑基体的滚球,所述支撑架上设有用于限制基体离心甩出的挡块。
2.根据权利要求1所述的化学气相沉积炉的基体支撑装置,其特征在于,所述支撑架包括支撑块和位于支撑块下方的连接板,所述滚动槽设置在支撑块的顶端,所述挡块固定连接在支撑块上远离基体的一端。
3.根据权利要求2所述的化学气相沉积炉的基体支撑装置,其特征在于,所述支撑块为三个,且沿着圆周方向等距排布。
4.根据权利要求1或3所述的化学气相沉积炉的基体支撑装置,其特征在于,所述挡块中与基体边缘接触的部位为圆弧面。
5.根据权利要求4所述的化学气相沉积炉的基体支撑装置,其特征在于,所述挡块上位于圆弧面两侧设有与圆弧面相连的倾斜面。
6.根据权利要求5所述的化学气相沉积炉的基体支撑装置,其特征在于,所述倾斜面与圆弧面相切。
7.根据权利要求2所述的化学气相沉积炉的基体支撑装置,其特征在于,所述连接板的一端延伸到支撑块的下方,另一端固定在自转驱动机构上;所述连接板上设有将支撑块固定在连接板上的锁紧组件。
8.根据权利要求7所述的化学气相沉积炉的基体支撑装置,其特征在于,所述锁紧组件包括位于连接板两侧的呈“L”形结构的锁紧块和固定连接杆,所述锁紧块包括第一锁紧块和第二锁紧块,所述第一锁紧块设置在连接板靠近支撑块的一侧,所述第二锁紧块设置在连接板的另一侧;所述第一锁紧块和第二锁紧块均包括水平部和竖直部,所述第一锁紧块的水平部位于连接板的下方,所述第二锁紧块的水平部位于连接板的上方;所述固定连接杆的一端穿过第一锁紧块的竖直部、支撑块的下端固定连接到第二锁紧块的水平部上。
9.根据权利要求8所述的化学气相沉积炉的基体支撑装置,其特征在于,所述第二锁紧块的水平部上设有螺纹孔;所述固定连接杆为螺栓结构,其设有外螺纹的一端固定连接到第二锁紧块的水平部的螺纹孔中。
10.一种化学气相沉积炉的基体旋转驱动装置,其特征在于,包括转盘、驱动转盘转动的转盘驱动机构以及若干个权利要求1-9任一项所述的化学气相沉积炉的基体支撑装置,其中,所述若干个基体支撑装置环绕着转盘的转动中心设置在转盘上,且通过转动连接结构连接在转盘上,所述转盘的转动中心构成公转中心,支撑架与转盘之间的转动结构的中心构成自转中心;所述转盘上设有驱动支撑架绕着自转中心转动的自转驱动机构。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的