[实用新型]一种纳米压印模板有效
| 申请号： | 201820003232.6 | 申请日： | 2018-01-02 |
| 公开（公告）号： | CN207623679U | 公开（公告）日： | 2018-07-17 |
| 发明（设计）人： | 张笑 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京正理专利代理有限公司 11257 | 代理人： | 张雪梅 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本实用新型公开一种纳米压印模板，其特征在于，包括显示区和保护显示区不被破坏的非显示区，所述非显示区高度大于显示区高度，所述非显示区支撑压印模板以使显示区不与位于基板上方的图案化层接触。本实用新型中提出了一种纳米压印模版，将模版中非显示区域的骨架结构增高，从而对显示区域的结构进行了保护，防止压印工艺过程中由于压印压力过大导致的模版破坏，进而增加了模版的利用次数，降低了工艺成本。 | ||
| 搜索关键词： | 显示区 非显示区 模版 纳米压印模板 本实用新型 显示区域 纳米压印模版 工艺成本 骨架结构 图案化层 压印工艺 压印模板 压印压力 基板 增高 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种纳米压印模板，其特征在于，包括显示区和保护显示区不被破坏的非显示区，所述非显示区高度大于显示区高度，所述非显示区支撑压印模板以使显示区不与位于基板上方的图案化层接触。
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