[实用新型]一种纳米压印模板

说明书

本实用新型公开一种纳米压印模板，其特征在于，包括显示区和保护显示区不被破坏的非显示区，所述非显示区高度大于显示区高度，所述非显示区支撑压印模板以使显示区不与位于基板上方的图案化层接触。本实用新型中提出了一种纳米压印模版，将模版中非显示区域的骨架结构增高，从而对显示区域的结构进行了保护，防止压印工艺过程中由于压印压力过大导致的模版破坏，进而增加了模版的利用次数，降低了工艺成本。

技术领域

本实用新型涉及纳米压印技术领域。更具体地，涉及一种纳米压印模板。

背景技术

压印技术最早由美国尼苏达大学提出，是一种光刻技术之外的重要薄膜图案化技术，主要包括热压印、紫外压印和微接触压印。其图案化原理可以描述为：在热或者紫外照射下将预先制作的有图案的模版压在压印胶上，再通过脱模、刻蚀多余胶、刻蚀和去胶等工艺，制作与模版相同或者相反的图案。其中为了保护模版，在压印工艺中并不会使模版与压印胶层下面的具有一定硬度的图案化层直接接触，而是在图案化层与压印模版之间留有一定距离的空隙，之后再通过刻蚀多余胶的步骤使图案化层显现出来，而在压印过程如果出现压印压力过大的情况，压印模版与图案化层直接接触，将会使模版破坏。

因此，需要提供一种纳米压印模板。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种纳米压印模板，将模版中非显示区域的骨架结构增高，从而对显示区域的结构进行了保护。

为达到上述目的，本实用新型采用下述技术方案：

一种纳米压印模板，包括显示区和保护显示区不被破坏的非显示区，所述非显示区高度大于显示区高度，所述非显示区支撑压印模板以使显示区不与位于基板上方的图案化层接触。

进一步地，显示区与非显示区交替间隔设置，所述显示区和非显示区包括多个间隔设置的突起部，所述显示区的突起部表面设有压印图案。

进一步地，非显示区的突起部高度大于显示区的突起部高度。

进一步地，基板上方从上到下依次设有压印胶层和图案化层。

进一步地，显示区的突起部与压印胶层接触并将图案压印在压印胶层上，所述非显示区的突起部穿过压印胶层与图案化层接触。

进一步地，显示区和非显示区的突起部的宽度和各个突起部的间隔大小范围是10nm～10um，根据待印图案的尺寸确定。

进一步地，显示区和非显示区的突起部截面为矩形。

进一步地，显示区和非显示区的突起部上设有对位标记，所述基板上设有与对位标记一一对应的位置标记。

进一步地，对位标记为设置在每个突起部四个顶点出的方框标记，所述位置标记为由遮光条构成的十字标记。

进一步地，压印模板由碳素钢板、碳化硅板、金属镍板或含氟聚合物制成。

本实用新型的有益效果如下：

本实用新型所述技术方案将纳米压印模版中非显示区域的骨架结构增高，从而对显示区域的结构进行了保护，防止压印工艺过程中由于压印压力过大导致的模版破坏，进而增加了模版的利用次数，降低了工艺成本。

附图说明

下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步详细的说明；

图1为现有技术中纳米压印模板结构示意图；

图2为本实用新型一个实施例所述的纳米压印模板结构示意图；

图3为本实用新型另一个实施例所述的纳米压印模板结构示意图。

图4为现有技术中纳米压印工艺流程示意图；