[发明专利]一种高可靠NIP结构台面型光电二极管及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201811598480.0 申请日: 2018-12-26
公开(公告)号: CN109728120B 公开(公告)日: 2022-08-09
发明(设计)人: 王立;黄晓峰;崔大健;高新江;莫才平;迟殿鑫;樊鹏;张承 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十四研究所
主分类号: H01L31/105 分类号: H01L31/105;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 重庆辉腾律师事务所 50215 代理人: 卢胜斌
地址: 400060 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明涉及半导体光电二极管领域,特别涉及一种高可靠NIP结构台面型光电二极管及制作方法,所述光电二极管包括半绝缘衬底,在衬底上生长有缓冲层、接触层、吸收层、渐变层和阻挡层;所述结构采用三层台面芯片结构,台面表面覆盖有钝化层,从所述N型台面引出N电极,从P型台面引出P电极,从而与所述N电极形成共平面电极;本发明采用NIP结构的光电二极管将P型层放在最低部,深埋在材料内部,可避免漏电和复杂的表面保护等问题;再配合三层台面的几何结构设计,可有效将内建电场限制在体内中心处,并最小化台面周边的边缘电场,抑制台面边缘的漏电流和边缘击穿,从而达到提高二级管芯片可靠性的目的。
搜索关键词: 一种 可靠 nip 结构 台面 光电二极管 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种高可靠NIP结构台面型光电二极管,其特征在于,所述台面型光电二极管包括三层台面结构,包括从上至下叠次连接的N型台面、吸收台面以及P型台面;在所述P型台面的台阶最底层为半绝缘衬底;每个台面的表面均覆盖有钝化层,从所述N型台面引出N电极,从P型台面引出P电极,从而P电极与所述N电极形成共平面电极。
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