[发明专利]一种光束成像装置有效
| 申请号： | 201811587448.2 | 申请日： | 2018-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN109449265B | 公开（公告）日： | 2020-11-27 |
| 发明（设计）人： | 田立飞;刘敬伟;姜磊 | 申请（专利权）人： | 国科光芯（海宁）科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L33/14 | 分类号： | H01L33/14;H01L33/40;H01L33/00 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 李博洋 |
| 地址： | 314400 浙江省嘉兴市*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光束成像装置，包括：衬底层；至少一个光波产生单元，设置在衬底层的上方，与衬底层接触，光波产生单元包括依次层叠设置的第一类型导电层、第一电极层和第一图形层、第二类型导电层以及第二电极层，图形层用于复合第一类型导电层的载流子和第二类型导电层的载流子，产生光波并传输光波；至少一个第二图形层，与光波产生单元间隔设置在衬底层的上方，与衬底层接触。本发明实施例提供的光束成像装置，不同电极层连接电源时，可以实现产生光波、传输光波以及调制光波等较多功能，此外，在衬底层上设置第二图形层，第二图形层可以用于传输光波，且在衬底层上直接形成第二图形层时，降低了成膜的难度，降低了传输损耗。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光束 成像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种光束成像装置，其特征在于，包括：衬底层；至少一个光波产生单元，设置在所述衬底层的上方，与所述衬底层接触，所述光波产生单元包括依次层叠设置的第一类型导电层、第一电极层和第一图形层、第二类型导电层以及第二电极层，所述第一图形层用于复合所述第一类型导电层的载流子和所述第二类型导电层的载流子，产生光波并传输所述光波；至少一个第二图形层，与所述光波产生单元间隔设置在所述衬底层的上方，与所述衬底层接触。
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