[发明专利]提供具有统一栅极的单元结构的方法在审
| 申请号： | 201811523624.6 | 申请日： | 2018-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN110034109A | 公开（公告）日： | 2019-07-19 |
| 发明（设计）人： | 周文升;康伯坚;彭永州;庄永旭;杨宇滔 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/02 | 分类号： | H01L27/02 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 康艳青;姚开丽 |
| 地址： | 中国台湾新竹科*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本公开阐述一种以具有多个统一栅极的单元结构取代器件的方法。一种示例性方法包括：接收电路图，所述电路图包括所述器件；确定所述单元结构，其中所述多个统一栅极的累加有效栅极长度等于所述器件的栅极长度；基于所述单元结构及所述器件产生平面图，所述平面图包括多个占位符的布置，所述多个占位符的所述布置与所述电路图中所述单元结构的布置及所述器件的布置匹配；以及基于所述平面图、所述单元结构及所述电路图产生电路布局。所述多个占位符被所述单元结构取代且所述单元结构能够基于所述电路图而连接到所述电路图的其他部分。 | ||
| 搜索关键词： | 单元结构 电路图 占位符 有效栅极长度 产生电路 累加 统一 匹配 | ||
【主权项】：
1.一种提供具有多个统一栅极的单元结构的方法，其特征在于，包括：接收电路图，所述电路图包括器件；确定所述单元结构，其中所述多个统一栅极的累加有效栅极长度等于所述器件的栅极长度；基于所述单元结构及所述器件产生平面图，所述平面图包括多个占位符的布置，所述多个占位符的所述布置与所述电路图中所述单元结构的布置及所述器件的布置匹配；以及基于所述平面图、所述单元结构及所述电路图产生电路布局，其中所述多个占位符被所述单元结构取代且所述单元结构能够基于所述电路图而连接到所述电路图的其他部分。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
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