[发明专利]基板处理装置在审

专利信息
申请号: 201811494729.3 申请日: 2018-12-07
公开(公告)号: CN110007491A 公开(公告)日: 2019-07-12
发明(设计)人: 谷池康司郎 申请(专利权)人: 夏普株式会社
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;H01L21/67
代理公司: 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司 44334 代理人: 汪飞亚;习冬梅
地址: 日本国大*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明的基板处理装置能够将进行了取向处理后的液晶用基板,在整个液晶用基板上覆盖有预处理材料薄膜的状态下搬送到清洗工序。对取向处理后的液晶用基板(20)进行清洗处理的基板处理装置(10)中,覆膜处理槽(11)具有对由搬送装置(15)搬入的液晶用基板(20)的取向处理面(20A)供给预处理材料(21)的第一供给装置(17),该第一供给装置(17)在向搬送方向的下游侧倾斜的状态下供给预处理材料(21),使其成为在沿着取向处理面(20A)且与搬送方向正交的方向上扩散的帘状,在覆膜处理槽(11)中的第一供给装置(17)的搬送方向的下游侧设有第二供给装置(18),对取向处理面(20A)的至少一部分供给预处理材料(21)。
搜索关键词: 液晶用基板 预处理材料 第一供给装置 基板处理装置 取向处理面 覆膜处理 取向处理 第二供给装置 搬送装置 方向正交 清洗处理 清洗工序 搬入 帘状 薄膜 扩散 覆盖
【主权项】:
1.一种基板处理装置,对取向处理后的液晶用基板进行清洗处理,其特征在于,具有:在搬送方向上搬送所述液晶用基板的搬送装置、通过水系清洗材料对所述液晶用基板进行清洗的清洗槽、在所述清洗槽的所述搬送方向的上游侧在所述液晶用基板上覆盖预处理材料薄膜的覆膜处理槽以及将所述薄膜置换为所述水系清洗材料的置换槽,所述覆膜处理槽具有第一供给装置,对由所述搬送装置搬入的所述液晶用基板的取向处理面供给所述预处理材料,该第一供给装置在向所述搬送方向的下游侧倾斜的状态下供给所述预处理材料,使其成为在沿着所述取向处理面且与所述搬送方向正交的方向上扩散的帘状,在所述覆膜处理槽中的所述第一供给装置的所述搬送方向的下游侧设有第二供给装置,对所述取向处理面的至少一部分供给所述预处理材料。
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