[发明专利]一种双面标记激光曝光设备在审

专利信息
申请号: 201811487907.X 申请日: 2018-12-06
公开(公告)号: CN109270807A 公开(公告)日: 2019-01-25
发明(设计)人: 周嘉;王续博;刘安;杜林;章凯迪;刘宏;王琪;芮西川 申请(专利权)人: 复旦大学
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海元好知识产权代理有限公司 31323 代理人: 贾慧琴;刘琰
地址: 200433 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种双面标记激光曝光设备,其包含:样品台;激光光源;掩膜版,该掩膜版上具有对准标记;分光镜,通过掩膜版的激光经该分光镜分为相互垂直第一激光束、第二激光束;设置在样品正面正上方、样品背面正下方的第一聚焦透镜、第二聚焦透镜;及,若干用于改变光路路径的反射镜;第一激光束经第一光路垂直入射至样品正面;第二激光束经第二光路垂直入射至样品背面。本发明通过设计的光路结构,对分光器分出的两光束进行操作,构建第一光路与第二光路,在样品的正面和背面形成大小、位置、形状完全一致的对准标记,以用于后续紫外光刻过程中的对准。本发明的曝光设备成本低,有效提高现有设备利用效率,几乎不存在机械磨损误差。
搜索关键词: 激光束 掩膜版 激光曝光设备 背面 对准标记 光路垂直 聚焦透镜 分光镜 光路 入射 光路结构 光路路径 机械磨损 激光光源 曝光设备 现有设备 紫外光刻 反射镜 样品台 分出 构建 对准 激光 垂直
【主权项】:
1.一种双面标记激光曝光设备,其特征在于,该曝光设备包含:用于放置样品的样品台;激光光源;对准激光光源的掩膜版,该掩膜版上具有对准标记;分光镜,通过掩膜版具有对准标记形状的激光经该分光镜分为相互垂直第一激光束、第二激光束;设置在样品正面正上方的第一聚焦透镜;设置在样品背面正下方的第二聚焦透镜;及若干用于改变光路路径分别构建第一光路、第二光路的反射镜;其中,第一激光束经第一光路垂直入射至第一聚焦透镜,再经第一聚焦透镜汇聚透射至样品正面;第二激光束经第二光路垂直入射至第二聚焦透镜,再经第二聚焦透镜汇聚透射至样品背面;所述透射至样品正面的第一激光束与透射至样品背面的第二激光束同轴。
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