[发明专利]一种氮化铝陶瓷覆铜基板的制备方法在审
申请号: | 201811451315.2 | 申请日: | 2018-11-30 |
公开(公告)号: | CN109608221A | 公开(公告)日: | 2019-04-12 |
发明(设计)人: | 何飞 | 申请(专利权)人: | 合肥市闵葵电力工程有限公司 |
主分类号: | C04B37/02 | 分类号: | C04B37/02;C04B41/88 |
代理公司: | 合肥道正企智知识产权代理有限公司 34130 | 代理人: | 武金花 |
地址: | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及一种氮化铝陶瓷覆铜基板的制备方法,包括以下步骤:(1)将氮化铝基板浸入除油溶液中,用超声清洗工艺清洗;(2)去掉氮化铝基板表面氧化层;(3)将氮化铝置于真空加热炉内进行热处理;(4)采用能量束辐射到陶瓷基板与铜箔结合面上,形成活性结合面;(5)将形成活性结合面的陶瓷基板置于一真空腔室内;(6)将N2通过该腔室内,启动溅镀镍靶材,形成离子束溅击,形成镀镍陶瓷基板;(7)将镀镍陶瓷基板与清洗后的铜箔待焊接部位以相对形式贴合,然后置于真空扩焊炉中进行扩焊焊接。本发明解决现有铜箔与氮化铝陶瓷基板结合力不足,通过减少两者之间的空隙率,提高两者的结合力,增强氮化铝陶瓷覆铜基板的强度。 | ||
搜索关键词: | 陶瓷基板 氮化铝陶瓷覆铜基板 铜箔 氮化铝基板 镀镍 制备 室内 表面氧化层 氮化铝陶瓷 能量束辐射 真空加热炉 热处理 浸入 超声清洗 除油溶液 工艺清洗 焊接部位 氮化铝 结合力 结合面 空隙率 离子束 镍靶材 真空腔 板结 焊炉 溅镀 贴合 焊接 清洗 | ||
【主权项】:
1.一种氮化铝陶瓷覆铜基板的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将氮化铝基板浸入除油溶液中,用超声清洗工艺清洗,去除氮化铝基板表面的污垢,并用去离子水冲净其表面;(2)将氮化铝基板浸入到浓度为0.1‑0.5%的稀酸和双氧水混合液中,用超声清洗工序使得表面均匀一致,去掉氮化铝基板表面氧化层;(3)将氮化铝置于真空加热炉内,先将温度升至180‑220℃后保温2‑3h,然后升至250‑300℃后保温1.5‑2h;(4)采用能量束辐射到陶瓷基板与铜箔结合面上,在该结合面上形成活性结合面;(5)将形成活性结合面的陶瓷基板置于一真空腔室内;(6)将N2通过该腔室内,启动溅镀镍靶材,形成离子束溅击,溅击出的镍原子挥发形成等离子体状态而被吸附沉积于陶瓷基板的活性结合面上,形成镀镍陶瓷基板;(7)将镀镍陶瓷基板与清洗后的铜箔待焊接部位以相对形式贴合,然后置于真空扩焊炉中,关闭真空室,打开抽真空系统,开启加热系统,将真空扩焊炉温度升温至650‑750℃,在保温开始前,对贴合后的材料施加4‑6MPa的压力,然后在温度为650‑750℃下及压力为4‑6MPa的条件下,保温25‑35min,保温后卸载压力,随炉温冷却至室温,干燥,得到氮化铝陶瓷覆铜基板。
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