[发明专利]一种气相沉积系统

摘要

本发明公开了一种气相沉积系统，包括反应炉、第一混合罐、第二混合罐，第一混合罐与反应炉相连通，第二混合罐与反应炉相连通，反应炉上连通有第一导气管和第二导气管，第一导气管用于反应炉内洗炉用气N2的传输，第二导气管用于氮化硼沉积所需反应气体NH3的输入，第一混合罐上连通有第三导气管，第三导气管用于氮化硼沉积所需反应气体BCl3的输入，第二混合罐上连通有第四导气管，第四导气管用于碳化硅沉积所需反应气体CH3SiCl3的输入，第一混合罐与第二混合罐外连通有辅助用气H2传输的第五导气管，第一混合罐与第二混合罐外连通有惰性用气Ar传输的第六导气管，本发明能够通过同一套设备实现氮化硼沉积与碳化硅沉积的先后进行，可以有效减小生产成本。

主权项

1.一种气相沉积系统，其特征在于，包括反应炉、第一混合罐、第二混合罐，所述第一混合罐与所述反应炉相连通，所述第二混合罐与所述反应炉相连通，所述反应炉上连通有第一导气管和第二导气管，所述第一导气管用于所述反应炉内洗炉用气N2的传输，所述第二导气管用于氮化硼沉积所需反应气体NH3的输入，所述第一混合罐上连通有第三导气管，所述第三导气管用于氮化硼沉积所需反应气体BCl3的输入，所述第二混合罐上连通有第四导气管，所述第四导气管用于碳化硅沉积所需反应气体CH3SiCl3的输入，所述第一混合罐与所述第二混合罐外连通有第五导气管，所述第五导气管用于氮化硼沉积与碳化硅沉积所需辅助用气H2的传输，所述第一混合罐与所述第二混合罐外连通有第六导气管，所述第六导气管用于氮化硼沉积与碳化硅沉积所需惰性用气Ar的传输。