[发明专利]一种高频响应矢量喷管有效
| 申请号： | 201811418634.3 | 申请日： | 2018-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN109630312B | 公开（公告）日： | 2021-02-09 |
| 发明（设计）人： | 郭丰领;魏巍;杨辉 | 申请（专利权）人： | 中国航天空气动力技术研究院 |
| 主分类号： | F02K1/28 | 分类号： | F02K1/28;F02K1/36;F02K1/78;B64C15/14 |
| 代理公司： | 中国航天科技专利中心 11009 | 代理人： | 庞静 |
| 地址： | 100074 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种高频响应矢量喷管,包括：双喉道射流推力矢量喷管(1)、等离子体合成射流发生器(6)、直流高压脉冲电源(11)；其中，所述双喉道射流推力矢量喷管(1)包括上游喉道(2)、下游喉道(5)以及二者之间形成的喉道间空腔(4)，射流孔(3)设置在上游喉道前；等离子体合成射流发生器(6)在所述直流高压脉冲电源(11)的激励下，产生高频射流，从所述射流孔(3)注入，使喉道间空腔(4)内流动产生分离，在所述两喉道间空腔(4)内部产生侧向分布不均匀的流场，使所述下游喉道(5)的进气条件不再均匀，从而迫使主喷流发生偏转，获得高频的推力矢量，所述的高频为10Hz‑500Hz。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高频 响应 矢量 喷管 | ||
【主权项】：
1.一种高频响应矢量喷管,其特征在于包括：双喉道射流推力矢量喷管(1)、等离子体合成射流发生器(6)、直流高压脉冲电源(11)；其中，所述双喉道射流推力矢量喷管(1)包括上游喉道(2)、下游喉道(5)以及二者之间形成的喉道间空腔(4)，射流孔(3)设置在上游喉道前；等离子体合成射流发生器(6)在所述直流高压脉冲电源(11)的激励下，产生高频射流，从所述射流孔(3)注入，使喉道间空腔(4)内流动产生分离，在所述两喉道间空腔(4)内部产生侧向分布不均匀的流场，使所述下游喉道(5)的进气条件不再均匀，从而迫使主喷流发生偏转，获得高频的推力矢量，所述的高频为10Hz‑500Hz。
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