[发明专利]金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法有效
| 申请号： | 201811389315.4 | 申请日： | 2016-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN109440062B | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 田村纯香;三上菜穗子;藤户大生;西辻清明;西刚广 | 申请（专利权）人： | 凸版印刷株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/12;C23F1/02;C23C14/24;H01L51/56;G01N21/55 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 牛玉婷 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及金属掩模基材、金属掩模基材的管理方法、金属掩模以及金属掩模的制造方法。金属掩模基材具备构成为配置有抗蚀剂的金属制的表面，入射到表面的光的镜面反射的反射率为45.2％以上。 | ||
| 搜索关键词： | 金属 基材 管理 方法 以及 制造 | ||
【主权项】：
1.一种金属掩模基材，其中，具备金属制的表面，该金属制的表面构成为配置有抗蚀剂，入射到上述表面的光的镜面反射下的反射率为45.2％以上。
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