[发明专利]转印模具、图案化膜层的制备方法及其应用有效
| 申请号： | 201811358002.2 | 申请日： | 2018-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN111186209B | 公开（公告）日： | 2022-03-29 |
| 发明（设计）人： | 史文;陈亚文 | 申请（专利权）人： | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
| 主分类号： | B41F16/00 | 分类号： | B41F16/00;B41M3/00;B41M3/12;H01L51/56 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 林青中 |
| 地址： | 510000 广东省广州市广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种转印模具、图案化膜层的制备方法及其应用，转印模具包括衬底和设于所述衬底上的若干隔离柱，若干所述隔离柱围设形成以所述衬底为底、以所述隔离柱为侧壁的凹槽，且所述衬底呈亲液性，所述隔离柱呈疏液性。该转印模具具有亲液性衬底和疏液性隔离柱，隔离柱围设形成的凹槽可用于沉积膜层材料，例如发光层、电子传输层、电子注入层、空穴传输层、空穴注入层等膜层的材料，尤其是可通过溶液制备且可通过蒸镀方式制备的有机材料，然后将膜层材料转印至基板上即可制备图案化膜层，可用于高分辨率大面积的有机电致发光器件的制备，避免了采用FMM制备时因FMM弯曲而造成混色或产生较大阴影区等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 印模 图案 化膜层 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
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