[发明专利]转印模具、图案化膜层的制备方法及其应用

说明书

本发明涉及一种转印模具、图案化膜层的制备方法及其应用，转印模具包括衬底和设于所述衬底上的若干隔离柱，若干所述隔离柱围设形成以所述衬底为底、以所述隔离柱为侧壁的凹槽，且所述衬底呈亲液性，所述隔离柱呈疏液性。该转印模具具有亲液性衬底和疏液性隔离柱，隔离柱围设形成的凹槽可用于沉积膜层材料，例如发光层、电子传输层、电子注入层、空穴传输层、空穴注入层等膜层的材料，尤其是可通过溶液制备且可通过蒸镀方式制备的有机材料，然后将膜层材料转印至基板上即可制备图案化膜层，可用于高分辨率大面积的有机电致发光器件的制备，避免了采用FMM制备时因FMM弯曲而造成混色或产生较大阴影区等问题。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，特别是涉及一种转印模具、图案化膜层的制备方法及其应用。

背景技术

有机电致发光器件(OLED)由于具有自发光、视角广、对比度高和低功耗等优点，被应用于新一代手机屏幕、电脑显示器、全彩电视等领域，受到行业的广泛关注。目前，蒸镀型的OLED在小尺寸显示屏产品如手机、平板等方面得到广泛应用。蒸镀工艺即在真空腔体内加热有机小分子材料，使其气化，通过金属掩膜板在玻璃基板上形成OLED膜层。随着技术的发展，市场对显示屏提出了更高的要求，比如大尺寸高分辨率显示。虽然采用蒸镀的方式结合FMM(精细金属掩膜版)能够实现高分辨率显示，但当面积增大时，FMM非常容易发生弯曲现象，即使轻微的弯曲也会造成混色或产生较大的阴影区等问题，因此蒸镀结合FMM的方式不利于大面积生产。

发明内容

基于此，有必要提供一种可避免因FMM弯曲而造成混色或产生较大阴影区等问题的制备图案化膜层的转印模具。

一种转印模具，包括衬底和设于所述衬底上的若干隔离柱，若干所述隔离柱围设形成以所述衬底为底、以所述隔离柱为侧壁的凹槽，且所述衬底呈亲液性，所述隔离柱呈疏液性。

本发明的转印模具具有亲液性衬底和疏液性隔离柱，隔离柱围设形成的凹槽可用于沉积膜层材料，例如发光层、电子传输层、电子注入层、空穴传输层、空穴注入层等功能膜层材料，尤其是可通过溶液制备且可通过蒸镀方式制备的有机材料，然后将膜层材料转印至基板上即可制备图案化膜层。该转印模具可用于高分辨率大面积的有机电致发光器件的制备，避免了采用FMM制备时因FMM弯曲而造成混色或产生较大阴影区等问题。具体来说，由于转印模具的衬底呈亲液性，含膜层材料的溶液在其上可以良好地铺展和钉扎，而隔离柱呈疏液性，含膜层材料的溶液无法在其上钉扎，从而使膜层材料仅沉积于隔离柱与衬底之间形成的凹槽。且隔离柱与衬底之间所形成的凹槽的宽度可以达到10μm以内，从而易于实现600ppi以上的高分辨率大面积的有机电致发光器件的制备。

在其中一个实施例中，所述衬底远离所述隔离柱的一面且与所述隔离柱对应的区域设有光反射膜。

在其中一个实施例中，所述隔离柱的高度为5μm～20μm。

在其中一个实施例中，所述凹槽的宽度为10μm以内。

在其中一个实施例中，所述衬底为光热转换衬底，所述隔离柱的材质为含碳氟链基团的有机材料。

本发明还提供了一种图案化膜层的制备方法，包括以下步骤：

提供上述转印模具；

将膜层材料沉积至所述凹槽内以形成薄膜；

将所述薄膜转印至基板上，得到所述图案化膜层。

在其中一个实施例中，所述将膜层材料沉积至所述凹槽内以形成薄膜的步骤包括：将所述转印模具置于含所述膜层材料的溶液中进行浸渍提拉，提拉速度为1mm/s～20mm/s。

在其中一个实施例中，所述将所述薄膜转印至基板上的步骤包括：将基板与形成有薄膜的转印模具对组，使基板置于转印模具设有隔离柱的一侧；将激光打在所述衬底远离所述薄膜的一面，以使所述薄膜蒸发至所述基板上。