[发明专利]转印模具、图案化膜层的制备方法及其应用

权利要求书

1.一种图案化膜层的制备方法，其特征在于，所述图案化膜层为有机电致发光器件的功能膜层，所述制备方法包括以下步骤：

提供转印模具，所述转印模具包括衬底和设于所述衬底上的若干隔离柱，若干所述隔离柱围设形成以所述衬底为底、以所述隔离柱为侧壁的凹槽，且所述衬底呈亲液性，所述隔离柱呈疏液性；所述衬底远离所述隔离柱的一面且与所述隔离柱对应的区域设有光反射膜；

将膜层材料沉积至所述凹槽内以形成薄膜；

将所述薄膜转印至基板上，得到所述图案化膜层。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述隔离柱的高度为5μm～20μm。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述凹槽的宽度为10μm以内。

4.根据权利要求1～3任一项所述的制备方法，其特征在于，所述衬底为光热转换衬底，所述隔离柱的材质为含碳氟链基团的有机材料。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将膜层材料沉积至所述凹槽内以形成薄膜的步骤包括：将所述转印模具置于含所述膜层材料的溶液中进行浸渍提拉，提拉速度为1mm/s～20mm/s。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述将所述薄膜转印至基板上的步骤包括：

将基板与形成有薄膜的转印模具对组，使基板置于转印模具设有隔离柱的一侧；

将激光打在所述衬底远离所述薄膜的一面，以使所述薄膜蒸发至所述基板上。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述转印在真空条件下进行且真空度高于10^-2Torr，所述激光的能量密度为2J/cm²～20J/cm²。