[发明专利]晶片清洗装置有效
申请号: | 201811305784.3 | 申请日: | 2018-11-05 |
公开(公告)号: | CN109768000B | 公开(公告)日: | 2023-09-05 |
发明(设计)人: | 现王园二郎 | 申请(专利权)人: | 株式会社迪思科 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/683 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 乔婉;于靖帅 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供晶片清洗装置,能够使海绵的更换作业变得容易,并且在清洗中海绵的角部不会出现缺损。晶片清洗装置(1)具有:晶片保持单元(20),其对晶片(W)进行保持;海绵保持单元(30),其对海绵(10)进行保持;以及移动单元(50),其使晶片保持单元(20)和海绵保持单元(30)相对地在晶片(W)的面方向上移动,海绵保持单元(30)具有:基台(31),其具有收纳海绵(10)的凹部(313);以及夹持单元(33),其使收纳于凹部(313)的海绵(10)的宽度(L)变窄而进行夹持,从而形成呈凸状弯曲的清洗面(11a),因此例如在对粘贴于晶片(W)的正面(Wa)的保护带(T)进行清洗时海绵(10)的角部不会出现缺损。并且,由于能够通过夹持单元(33)对收纳于基台(31)的海绵(10)进行夹持而保持,所以能够容易地进行海绵(10)的更换作业。 | ||
搜索关键词: | 晶片 清洗 装置 | ||
【主权项】:
1.一种晶片清洗装置,其将矩形的海绵的清洗面推抵于晶片的一个面侧而对晶片的一个面侧进行清洗,其中,该晶片清洗装置具有:晶片保持单元,其对晶片进行保持;海绵保持单元,其对该海绵进行保持;以及移动单元,其使该晶片保持单元和该海绵保持单元相对地在晶片的面方向上移动,该海绵保持单元具有:基台,其具有收纳该海绵的凹部;以及夹持单元,其使收纳于该凹部的该海绵的宽度变窄而进行夹持,从而形成呈凸状弯曲的该清洗面,该晶片清洗装置利用呈凸状弯曲的该清洗面对晶片进行清洗。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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