[发明专利]等离子体处理装置有效

专利信息
申请号: 201811294778.2 申请日: 2018-11-01
公开(公告)号: CN109755091B 公开(公告)日: 2021-06-25
发明(设计)人: 伊藤智 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供一种等离子体处理装置。等离子体处理装置(10)具备腔室(11)、气体供给源(44)、天线(54)以及多个保持部(55)。腔室(11)在内部具有空间,利用在空间内生成的等离子体对被搬入到空间内的半导体晶圆(W)进行处理。气体供给源(44)向腔室(11)的空间内供给处理气体。天线(54)具有卷绕两圈以上的线路(540),通过由在线路(540)中流动的电流在腔室(11)的空间内形成的感应电场来在空间内生成等离子体。各个保持部(55)保持天线(54)的线路(540)。另外,保持部(55)以与相邻的其它保持部(55)之间形成规定距离以上的间隙的方式配置于天线(54)的线路(540)。
搜索关键词: 等离子体 处理 装置
【主权项】:
1.一种等离子体处理装置,其特征在于,具备:腔室,其在内部具有空间,利用在所述空间内生成的等离子体对被搬入所述空间内的被处理体进行处理;气体供给部,其向所述腔室的所述空间内供给处理气体;高频天线,其具有相邻的多个线路,通过由在各个所述线路中流动的电流在所述空间内形成的感应电场来在所述空间内生成所述等离子体;以及多个保持部,所述多个保持部保持所述高频天线的所述线路,其中,各个所述保持部以与相邻的其它所述保持部之间形成规定距离以上的间隙的方式配置于所述高频天线所具有的各个所述线路。
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