[发明专利]等离子体处理装置

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，具备：

腔室，其在内部具有空间，利用在所述空间内生成的等离子体对被搬入所述空间内的被处理体进行处理；

气体供给部，其向所述腔室的所述空间内供给处理气体；

高频天线，其具有相邻的多个线路，通过由在各个所述线路中流动的电流在所述空间内形成的感应电场来在所述空间内生成所述等离子体；以及

多个保持部，所述多个保持部保持所述高频天线的所述线路，

其中，各个所述保持部以与相邻的其它所述保持部之间形成规定距离以上的间隙的方式配置于所述高频天线所具有的各个所述线路，以使得相邻的线路间沿着保持部的表面放电的路径比所述相邻的线路的距离长。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

各个所述保持部保持所述高频天线中的、在从所述高频天线的外形的中心离开的方向上相邻的各个所述线路，

分别保持在所述离开的方向上相邻的两个所述线路的两个所述保持部在与所述离开的方向交叉的方向上的不同的位置处保持各个线路。

3.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于，

所述高频天线为所述线路卷绕成大致圆形的螺旋状的平面线圈。

4.根据权利要求3所述的等离子体处理装置，其特征在于，

各个所述保持部保持外形为大致圆形的所述高频天线中的、在所述高频天线的径向上相邻的各个所述线路，

分别保持在所述径向上相邻的两个所述线路的两个所述保持部在大致圆形的所述高频天线的周向上的不同的位置处保持各个线路。

5.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于，具备：

多个支承部，所述多个支承部支承各个所述保持部；

电介质板，其构成所述腔室的上部；以及

屏蔽构件，其以将配置于所述电介质板的上方的所述高频天线覆盖的方式设置，

其中，针对各个所述保持部各设置有一个所述支承部，各个所述支承部将所述保持部支承于所述电介质板和所述屏蔽构件中的至少任一方。

6.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于，具备：

多个支承部，所述多个支承部支承各个所述保持部；

电介质板，其构成所述腔室的上部；以及

屏蔽构件，其以将配置于所述电介质板的上方的所述高频天线覆盖的方式设置，

其中，针对规定数量的所述保持部各设置有一个所述支承部，各个所述支承部将规定数量的所述保持部支承于所述电介质板和所述屏蔽构件中的至少任一方。

7.根据权利要求5所述的等离子体处理装置，其特征在于，

各个所述支承部具有：

第一支承部，其将所述保持部支承于所述电介质板；以及

第二支承部，其从所述第一支承部起沿所述电介质板的面方向延伸，

其中，所述第一支承部的下端与所述电介质板的上表面接触，

所述第二支承部固定于所述屏蔽构件。

8.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于，具备：

电介质板，其构成所述腔室的上部；以及

屏蔽构件，其以将配置于所述电介质板的上方的所述高频天线覆盖的方式设置，

各个所述保持部具有：

第一保持部，其固定于所述屏蔽构件，从所述线路的上方保持所述线路；以及

第二保持部，其固定于所述电介质板，从所述线路的下方保持所述线路。

9.根据权利要求1或2所述的等离子体处理装置，其特征在于，

相邻的两个所述保持部之间的间隙比所述高频天线中相邻的所述线路之间的距离长。